第1161章 鍍膜卡關！自研破壟斷（1/2）
反射鏡基材的超精密加工和複雜多層鍍膜的難題，猶如兩座必須翻越的冰山。
蘇定平深深明白，即便龍心實驗室掌握了核心工藝，也沒有必要也沒有能力為這一個環節單獨建立一條大規模的生產線。
這太奢侈了！
拿著那份凝結了無數心血的離子束拋光新圖紙和ALD工藝手冊，以及幾塊剛剛在龍心試製線用新工藝做出來的、性能優異的試驗片，蘇定平帶著技術轉讓意向書，親自找上了龍夏部落負責光學元件頂尖研發的927研究所。
所長鄭玉，一個頭髮花白、眼神卻銳利如鷹的老研究員，親自在研究所門口迎接。
他知道蘇定平現在在做的事情，更清楚龍心實驗室目前頂著多大的壓力。
會議室內，蘇定平沒有客套，直接將圖紙和樣品推了過去。
「鄭所長，龍心實驗室在EUV光刻機反射鏡的超精密拋光和多層膜沉積上取得了一些突破，這是工藝圖紙和試驗樣品的數據報告。」
鄭玉一開始神情凝重。
他知道EUV反射鏡的要求有多變態。接過圖紙，戴上老花鏡，他只是看了第一頁核心工藝原理的總述部份，拿著圖紙的手就猛地一抖！眼神陡然銳利得像探照燈，死死盯著圖紙上「離子束原子級刻蝕」、「動態補償模型」的字眼和結構圖。
緊接著，目光又落在旁邊那份薄薄的ALD工藝優化綱要上。
「溫度場梯度驅動原子吸附」、「分子級脈衝閥門時序控制」……他的呼吸陡然變得粗重起來！
「這……這圖紙……」
鄭玉猛地抬起頭，眼神直勾勾盯著蘇定平，聲音帶著激動和難以置信的顫抖。
「蘇總工！你們……你們這是怎麼搞出來的？這思路……這工藝！完全是顛覆性的！跟我們研究所幾十年在光機研磨拋光的老路根本不是一個概念！還有這ALD工藝的改進點，簡直神了！」
他放下圖紙，幾乎是搶也似的抓過旁邊那幾塊小小的試驗鏡片，對著光仔細查看那光滑如無物般的表面。
「你們拋光的面型精度……」
「實測RM，首批試驗片全部在這個數值區間。」
蘇定平沉聲道。
鄭玉倒吸一口冷氣！
他又撲到一旁的檢測儀器前，不顧身份地親自操作，將一塊試驗片放入專用的光譜分析儀中。屏幕上立刻顯示出清晰無比的多層膜干涉條紋！薄膜的均勻性、層間的界限清晰度，都讓鄭玉的眼睛越瞪越大。
「老鄭？」
旁邊幾位副所長看他半天不說話，著急地催促。
鄭玉猛地站起身，轉過身，臉上因為激動漲得通紅，他用力拍著自己的大腿。
「好！好！太好了！蘇總工！了不起！太了不起了！」
他幾乎是吼出來的。
「這技術！
這精度！別說合格！
這已經比我們掌握的最機密資料里顯示的、那個A公司旗艦機上用的頂級反射鏡性能還要強！還要穩定！強一截！」
他一把抓住蘇定平的手，握得死緊。
「蘇總工！
這份圖紙和技術，我們927所，全力配合！我們有全國最好的光學冷加工基地，有最成熟的光學薄膜鍍膜產線技術骨幹！我敢立軍令狀！
就憑這張圖，這份工藝，我們不但能給你穩定量產符合要求的EUV光刻機用反射鏡，而且性能，絕對能壓A一頭！徹底打破他們在這塊鐵桶般的壟斷牆！」
蘇定平感受著手臂上傳來的巨大力量，看著眼前這位激動得語無倫次的老專家眼中爆發出的熾熱光芒，心中懸著的一塊巨石終於落下一半。
「那就拜託鄭所長了！時間緊！需要哪方面的協同實驗，龍心團隊全力配合！」
「沒問題！」
鄭玉拍著胸脯。
「你這份圖紙和工藝一到，就是我們全所的衝鋒號！」
幾個月後，第一批完全由龍夏部落自主設計、自主工藝、927研究所獨家生產的EUV極紫外光刻機專用多層膜反射鏡系統，在嚴格的外部第三方檢測實驗室里完成了最終的性能測試。
當報告送達龍心實驗室高層和蘇定平的案頭時，所有人看到那醒目的結論——「核心面型精度RMS誤差。
≤0.08nm；薄膜層厚均勻度誤差。
≤0.09nm；綜合光轉化效率與穩定性全面超越對標樣品」。
這一刻，沒人歡呼雀躍，反而是一陣死一般的寂靜。
袁濤看著報告上那令人眩暈的數據對比，嘴唇微微翕動了幾下，最終只發出幾個嘶啞的音節。
「成了……真他娘的……干成了！」
A那曾經被視為無法逾越的、用無數專利和百年技術積纍堆砌而成的高聳城牆反射鏡壁壘上，硬生生被砸出了一個巨大的缺口！
蘇定平重重地靠倒在椅背上，仰頭看著天花板刺眼的日光燈。
連日來的疲憊如同潮水般湧上，伴隨著巨大的、難以言喻的成就感。光源、反射鏡……EUV光刻機這座堡壘最堅硬的幾個內核，正在一個接一個地被龍夏部落的工匠撬開！
「終於……邁出了實質性的一大步。」
他閉上眼，輕聲說道。
然而，短暫的喘息只在一瞬。下一個巨大陰影已經撲面而來。
寬敞但氣氛壓抑的EUV組裝預研車間裡，碩大的真空系統框架已經初具輪廓。
蘇定平、袁濤等人站在巨大的設計面板前，目光聚焦在面板中央那兩個至關重要的核心組件圖標上——供件台和掩模台。
「定平。」
袁濤的聲音透著前所未有的凝重。
「這兩個台子，說白了，就是把那指甲蓋大小的矽晶片和大尺寸掩模版，以納米級的精度，在三維空間裡精確對位和快速移動的兩隻手。」
他抬起手，指尖指著面板上的技術指標，那數字觸目驚心。
「移動速度要達到每秒數米以上！」
「移動精度要控制在小於3納米以內！」
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