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第586章 國產光刻機崛起的希望!高通?小丑(1/2)

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第585章 國產光刻機崛起的希望!高通?小丑罷了!

EUV光源,即13.5納米波長的極深紫外光,是實現「超精密電路雕刻」的核心,直接決定了晶片的最小線寬、集成度與性能上限。

只需一次曝光,就能把掩膜版上的電路圖,複製到晶圓表層。

而傳統的DUV光刻機,需通過「多重曝光」,才能形成晶片所需的精細線路。

具體來說,就是要對同一區域的光刻膠進行2到4次光刻與顯影操作,最終效果才相當於 EUV光刻機一次曝光所能達到的水平。

梁勁松從格羅方德、聯華電子手裡購買的NXT 1950i DUV光刻機,雖然也能生產14納米、乃至10納米的晶片,但必須利用多重曝光工藝。

然而,多次曝光會導致光刻步驟增加,生產周期變長、良品率驟減、成本迅速上升,至少要高個30%到50%。

這也是為何阿斯麥只要不向華國的Fab工廠出售EUV光刻機,便能牢牢卡住整個半導體行業脖子的主要原因。

即便掌握了其他關鍵技術,也會因製造成本居高不下,從而失去商業價值與市場競爭力。

就拿同一款晶片產品來說,高通以20美幣的價格出售仍有毛利可賺,但國內晶片製造商若同樣以20美幣的價格售賣,反而要虧損三成。

面對這樣的成本與盈利差距,採購方自然不願買單。

陳延森提出的磁約束放電激發方式,則放棄了雷射轟擊液態金屬錫、激發極深紫外光的方案,轉而採用在強磁場約束下,通過高功率脈衝放電,在金屬錫靶表面產生穩定、高亮度等離子體的技術路徑。

優點顯而易見,固態靶材加高壓放電,機械結構更簡單,穩定性更高。

這是一項差異化極大的技術,可以繞過大量現有的LPP專利壁壘牆。

「辛苦了,繼續在磁約束放電激發技術的基礎上,深耕延伸專利,以防歐美的半導體公司使用微創新的手段,反過來限制我們。」

陳延森在聽完林南的匯報後,當即叮囑道。

高通為什麼栽了?

還不是他在射頻、通信解碼等技術上,設置了全新的專利壁壘,把高通的出口給堵住了。

要不然,保羅·雅各布能心甘情願地與天工科技簽訂專利交叉授權協議?

想都別想!

自己走過的路,當然要堵死!

他可不想有朝一日,突然冒出來一家公司,起訴星源科技侵權。

「好的老闆,我知道構建專利生態壁壘的重要性。」林南立即應道。

他是滬城光學精密機械研究所的高級工程師,在行業內小有名氣。

之前,星源科技和華科協會下屬光電所聯手推進攻關計劃時,胡銳暉就向陳延森推薦了林南。

陳延森要錢給錢,要器材給器材,完全是一副財大氣粗的樣子。

林南在研究所蹉跎了十幾年,眼看民營公司的研究員都拿到了諾貝爾化學獎,他哪裡還坐得住?

在收到陳延森的邀請後,二話不說,就加入了星源科技的光學研究實驗室,與光電所的院士們並肩作戰,試圖另闢蹊徑,尋找一種可商用的EUV光源激發方式。

起初毫無進展,直到陳延森指了一條天馬行空的路線。

用「電磁場」代替「雷射」作為激發和約束等離子體的手段,在放電區域周圍設置一組超導磁體線圈,產生一個特殊的磁鏡場構型。

先用脈衝電流激發等離子體,再用多層反射鏡來收集13.5納米的波長,最後聚焦和輸出。

林南原本不以為然,但在研究一段時間後,他發現老闆的方案並非是空想,而是具備極強的可實現性。

事實證明,這條路是對的!

「行,先這樣。」

陳延森極為平淡地掛了電話。

在他看來,光刻技術是個無比龐大的環節,除去光源部分,物鏡系統、雙工作檯、光刻膠等模塊也是重中之重。

搞定EUV光源的激發方式,不過是千里之行,才走一步而已。

另一邊。

林南暗自咋舌,表情有些失控,他其實很想再打回去告訴老闆:「憑藉這項技術,明年拿個國家最高科學技術獎,也不是沒有可能啊!」

可他轉念一想,深藍科技還有三個諾貝爾化學獎的獲得者,老闆的反應平淡也很正常。

由於『磁約束放電等離子體光源』是星源科技和華科協會的共同研究成果,消息在國內的科學界飛速傳開。

胡銳暉在得知後,猛地站起身,根本不敢相信。

「這才四個月不到,就特麼有成果了?開什麼玩笑?」

胡銳暉在辦公室里走來走去,竟破天荒地爆了粗口。

同一時間,哈工大光學實驗室和龍州光機所也收到了消息。

第一反應,假的!

可他們在反覆驗證後,又不得不相信,星源科技和燕京光電所,還真把EUV光源技術給搞了出來。

並且,還成功繞過了阿斯麥、卡爾蔡司、山星、灣積電和Cymer構築的專利防禦牆。

兩個小時後,李青松接到胡銳暉的電話。

「先封鎖消息,讓安國協會的工作人員立刻趕到滬城,所有參與了研發過程的人員,一律簽署保密條例。」

李青松在明白這項技術的重要性後,臉色瞬間變得凝重起來,衝著一旁的秘書吩咐道。

他在星源科技身上,看到了國產光刻機崛起的希望!

「好的,李先生。」秘書不敢耽擱,抓起電話就開始聯繫安國協會,將需要簽署保密條例的人員名單、對接流程一一梳理清楚。

李青松則站在辦公室的玻璃窗前,望著燕京灰濛濛的天空,不由地陷入了沉思。

星源科技在EUV光源領域的技術突破,像一道驚雷,劈開了自研光刻機路上的迷霧,可隨之而來的,還有無數即將襲來的暗流。

一旦消息泄露,阿斯麥、卡爾蔡司那些國際巨頭絕不會坐視不理,要麼通過專利訴訟拖延進度,要麼聯合供應鏈施壓,甚至可能動用盤外力量干預。

畢竟,半導體行業從來都不只是單純的技術競爭,背後牽扯著太多的利益博弈。

星源科技的發展讓人出乎意料!

與此同時。

滬城星源科技的光學研究實驗室里,林南正帶領團隊進行第三次穩定性測試。

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