第1607章 兩手準備（2/2）

如果能把現有DUV光刻機的NA值從35大幅提升到70以上，相當於把等效解析度波長從2nm壓縮到9nm。

這將極大擴展現有DUV設備的實用能力邊界，可能直接解決40nm乃至28nm的圖形化問題，顯著減輕對多重曝光技術的依賴，從而繞開良率和成本的泥潭！

片刻的思索後，常浩南心中已有了初步的盤算。

他依舊沒有直接點破負折射率材料的存在，但決定再向前推進一步。

「實不相瞞，火炬實驗室目前正在探索一種新型的光學系統設計理念，其中涉及一些……非傳統的路徑。」他措辭謹慎，「為了更好地評估這種新理念的潛力，我們迫切需要一些關鍵的設計輸入參數。」

吳明翰心說終於來了。

對方提出的要求極其具體且專業，目標明確指向了物鏡系統。

結合之前提到的「新型設計理念」和對鑥鋁石榴石特性的關注，一個模糊但激動人心的輪廓在吳明翰腦海中逐漸浮現——

常院士手中，很可能掌握著一種能夠解決高NA值問題的顛覆性技術！

想到這裡，他用肉眼難辨的速度掏出了早就準備好的紙筆：

「您說」

常浩南看著眼前這副早有準備樣子也是一愣，然後開始列出需求：

「首先，我們需要明確目標NA值下對應的、實際光刻工藝所要求的光學設計規格。包括但不限於：有效成像視場的大小、允許的最大波像差、畸變容限、還有系統的工作距離等硬性指標。」

「其次是透鏡組的整體結構布局……」

「……」

洋洋灑灑，十幾分鐘才終於說完。

吳明翰從頭到尾瀏覽了一下。

不知道是不是常浩南有意，總之幾乎不涉及華芯國際的核心技術。

甚至無需向董事會徵求意見，他這個層級就能直接做決定。

於是朝著周學點了點頭。

後者隨即接過話茬：

「雖然全折射物鏡的研發項目已經中止，但所有技術文檔和實驗數據都完整歸檔保存著，我可以直接授權調閱，雖然當初的設計遠達不到7NA的指標，但裡面的設計邏輯、材料選擇考量、以及當時遇到的像差問題記錄，應該很有價值。」

「放心，調閱就足夠了。」常浩南點頭，「都是一套體系裡面的，我知道內部會有一些保密要求，不會複製的。」

周學聽罷，略略鬆了口氣：

如果對方真要拷貝一份帶走，難做的只會是他自己。

「感謝常院士您理解。」

周學搓了搓手，但旋即語氣一變：

「不過，常院士，關於折反式物鏡系統……我們華芯就只有一些最基礎的原理性了解和公開文獻能搜集到的皮毛信息，詳細設計數據、材料應用和像差控制經驗，我們掌握得很少。」

「國內真正精於這方面，應該首推長光集團，他們是國家在高端光刻光學系統研發方面的絕對主力，也負責承擔物鏡系統的攻關任務……」

吳明翰這會兒已經把本子收好，重新開口道：

「常院士，如果需要的話，我可以立即和長光方面取得聯繫，由我們華芯出面協調，看是否能為您獲取必要的規格信息或設計參考……長光的張汝寧研究團隊，在這方面是真正的權威。」

果然。

常浩南心想。

這下省功夫了。

他站起身，主動和吳明翰握了握手：

「那就勞煩吳院士了。」