第1606章 多重曝光（1/2）

三天後，未來信息產業大會圓滿落幕。

常浩南婉拒了後續的交流活動，在周學和兩名便裝警衛的陪同下，乘坐一輛低調的中巴車，直奔華芯國際設置在津門海河新區的生產與研發基地。

按照常浩南本人的要求，基地沒有設置盛大的歡迎儀式。

只有負責人黃煒和提前一天回津的技術總監吳明翰，以及幾名核心技術人員安靜地等候。

看到常浩南下車，為首兩人立刻迎上前。

簡短的寒暄後，常浩南一行人便在專人引導下，前往更衣區。

晶圓製造對潔淨度的要求比手術室嚴格百倍，因此在進入核心區域之前，必須換上全套特製的無塵服，並經過嚴格的風淋除塵程序。

踏出氣動閘門之後，空氣里就只剩下特有的潔淨室氣味，以及微弱的機器嗡鳴。

透過觀察窗，可以看到一批完成拋光和清洗、表面光潔如鏡的矽片，正被機械臂精準地送入沉積區，進行著薄膜生長。

「常院士，這是我們最基礎的環節之一，矽片的製備和初始加工。」黃煒的聲音透過通訊系統傳來，「經過表面處理、清洗、沉積必要的鍍膜作業之後，晶圓才會進入後面的光罩製作……也就是光刻環節。」

黃煒一邊介紹流程，一邊注視著自動化流程的完成。

正巧，一個批次的晶圓剛剛完成鍍膜，被機械臂取出。

他示意操作員取出一片樣品，隔著專用視窗展示給常浩南。

晶圓表面反射著頂燈的冷光，呈現出均勻的光澤。

常浩南俯身盯著晶圓的尺寸和邊緣，伸手隔著玻璃比劃了一下，問道：「黃總，這一批是200mm（8英寸）？」

「是的，常院士。」黃煒肯定道，「這是我們目前量產的主力尺寸。」

旁邊的吳明翰適時補充：「12英寸（300mm）的產線還在備產階段，主要是……現在公司的資金和頂尖工程資源，絕大部分都集中投入到光刻環節的突破上，尤其是利用現有深紫外（DUV）設備攻堅更先進位程的研發。」

「不過從技術儲備的角度，我們並不落後太多，一旦資金或關鍵設備到位，提速會很快。」

常浩南微微頷首，沒有多言，示意繼續前行。

「後面就是光罩製作區了。」黃煒一邊引路一邊介紹，「把IC設計圖用電子束刻在石英片上，就能製成光罩，這個東西類似照相底片，剛才生產的晶圓就是相片紙，基本原理和洗照片差不多。」

雖然不完全準確，但足夠生動，哪怕是外行也很容易理解。

「這裡是我們給客戶提供代工服務的主力區域。」黃煒指著幾台正在運行的光刻機介紹：「除了滿足國內IC設計公司的需求之外，我們也承接像德州儀器等國際廠商的部分訂單。」

常浩南微微露出驚訝的表情，只是隔著面罩展現不出來。

「還有外國訂單？」

「嗯，產品主要面向國內和中亞市場。」吳明翰解釋道，「中低水平製程這塊，我們流片的良率和速度都有優勢。」

常浩南突然意識到，如今半導體產業的情況，要遠比自己過去那條時間線上複雜得多。

介紹間，黃煒注意到常浩南的目光並未停留在運行中的量產設備上，而是投向了不遠處一個被透明圍擋隔開的區域。

那裡同樣屬於光罩製作區，但周圍聚集的技術人員更多，氛圍也更顯緊張和專注。

「常院士，那邊是我們的研發攻堅區。」黃煒解釋道，「您也看到了，生產和研發在光刻這個環節，很多時候是共用同一條線，設備和技術是互通的。」

「那邊就是在嘗試雙重甚至四重曝光技術，目標是用我們現有的NXT:1950i DUV光刻機，向更小的特徵尺寸發起衝擊。」

常浩南的目光轉向吳明翰：「這就是之前您提到的，良品率最低、成本最高的環節？」

吳明翰臉上浮現出複雜的神情。

他沒有直接回答，而是引著常浩南走向該區域旁邊一個專門的陳列台。

「常院士請這邊看。」

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