第1649章 7nm時代，我們來了！（2/2）

完成了所有前道準備的晶圓，終於被機械臂小心翼翼地送入ArF1800光刻機的內部。

幾十顆心齊齊提了起來。

但也只能幹著急。

光刻過程都是在設備內部完成，根本沒辦法直接目視觀察。

眾人只能聽到低沉的嗡鳴聲節奏發生變化，看到設備周圍的伺服機構開始動作，高精度的掩模台和晶圓台在納米尺度上高速而精準地協同運動，充滿了科技特有的力量感。

「光刻的核心，簡單理解，就像用極其精密的『光』筆，把設計好的電路圖『畫』到塗了感光膠的晶圓上。」

或許是為了緩解緊張氣氛，吳明翰轉過身來，用最通俗的類比介紹整個光刻過程：

「掩模版就是那個高精度的『底片』，上面刻著放大了的電路圖形，光源發出的深紫外光經過物鏡組匯聚穿過掩模版，再經過一系列複雜的光學透鏡系統縮小聚焦，最終將微縮幾十倍甚至上百倍的電路圖案，精準『曝光』在晶圓的光刻膠層上……」

「……」

他頓了頓，語氣中帶著慶幸和自信：

「得益於ArF1800本身極高的解析度和套刻精度，我們在生產當前這一代7納米製程節點的產品時，不需要再依賴相移掩模或者多重曝光這類極端技術，所以我們對這次流片的良品率非常有信心。」

隨著吳明翰的話音，ArF1800內部，肉眼不可見的精密過程正在發生：

雷射脈衝精準激發，掩模台在納米級精度下移動、對準，複雜的光學系統將掩模版上的圖形以極高的解析度投影到晶圓的光刻膠層上。

監控屏幕上，代表曝光進程的進度條平穩推進。

曝光完成的晶圓被送出，進入後烘步驟，使曝光區域的化學反應更加徹底，圖形更加穩定。

接著是顯影環節，特定的化學溶液被噴灑到晶圓表面，溶解掉未被光源照射到區域的光刻膠，從而將掩模板上的電路圖形「顯影」出來，清晰地呈現在晶圓表面。

定影流程則進一步強化剩餘光刻膠圖形的穩定性，使其能承受後續的蝕刻衝擊。

隨後，晶圓浸入特製的化學刻蝕液中，沒有光刻膠保護的區域被選擇性去除掉。

最終，刻蝕完成後，完成使命的光刻膠層被徹底去除乾淨……

……

當最後一道沉積工序完成，第一批經過完整前端工序處理的晶圓被送出工作腔，也把氣氛推到了頂點

吳明翰示意工作人員將其中一片晶圓置於一個帶有特殊角度照明的觀察台上，隔著潔淨的保護罩展示給眾人。

在特定角度的光線照射下，光滑如鏡的矽晶圓表面，清晰地呈現出無數細密到肉眼幾乎無法分辨細節、但排列極其規整有序的幾何圖形——那是電晶體柵極、源漏區、隔離槽等基礎器件的輪廓。

它們層層迭迭，構成了晶片最基礎的「地基」。

實際上，吳明翰早已經準備好了用在這時候的解說詞。

既專業又煽情。

然而看著眼前的一幕，卻是他自己首先抑制不住積壓已久的情緒，彎腰貼在保護罩表面，如同欣賞自己的孩子一般，如痴如醉地緊盯著那塊晶圓。

甚至連吐出的話語中都帶上了幾分哭腔：

「各位……」

只說了兩個字，就哽咽無聲。

欒文杰搞航天出身，常浩南搞航空出身，也都能理解他此時此刻的心情。

因此，沒有人催促。

只是任由對方在面罩下調整著心態。

過了好一會，吳明翰才重新開口道：

「各位領導，雖然這些圖形還需要經過後續的金屬互連，用金屬導線將它們按設計要求連接起來，通入電脈衝信號，才能真正成為一顆有功能的晶片。但是——」

他深吸一口氣，目光掃過常浩南、欒文杰、向華平，以及周圍屏息凝神的技術團隊，一字一句，鏗鏘有力：

「到了這一步，晶圓製造過程中最複雜、最核心、決定了晶片最小特徵尺寸的光刻步驟都已經完成……我們……已經圓滿完成了ArF1800光刻機的首次生產測試任務！」

「7nm時代，我們華夏人，來了！」