第3667章 193浸潤式微影技術（2/2）

「MIT（麻省理工學院林肯實驗室），得州大學，m國國防部、能源部、國家實驗室、國家科學委員會、國家標準及技術院，都一直在遊說ASML，進行這個方向的技術推進。」

蕭揚明說道：「第二個方向就是進行157nm的液體介質浸沒式光刻，這個方向的風險性太大，幾乎等於要把原來已經成熟的193nm乾式架構全部推到重新架構，這個方案雖然也有一定的呼聲，不過並不大，至少在目前技術水平下，還有著太多的障礙沒法攻克。而且無論是時間的跨度還是海量的投資，都能讓人窒息。然而幾乎所有真正懂得步進機原理的都知道，157nm進程早晚都要面對，即使現在規避，可等到摩爾定律到了時間壓縮的極限，還是最終需要重啟。」

「在這兩種方案的對比下，Sematech美方非企業組織顯然覺得，ASML可以和Nikon和Canon進行同質化研發，這樣至少可以保持住ASML在光刻機領域的世界前三強的位置，制約東洋。」

在90年ASML推出PAS5500之前，ASML在全球光刻機領域的市場份額，幾乎可以忽略不提，而且自從成立起就一直處於虧損狀態，整整虧損了六年。

這裡面幸虧有飛利浦持股27.4%的台積電的訂單，不然ASML生產出來的PAS步進機，根本就沒有人買。

而從PAS5500開始，只是靠著這一款產品，ASML就一路擠掉全球諸多的光刻機企業，成為全球第三。

也正是憑藉著PAS5500的亮眼表現，讓歐洲和老m突然對有可能超過Nikon和Canon，成為全球光刻機霸主，充滿了一種熱血的衝動和渴望，不願意在這個領域受制於人。

連忙不請自來的屁顛屁顛的到處串聯，於97年組建Sematech聯盟。

到了99年開始收購矽谷集團（SVG），這是美國本土唯一的一家大型光刻機企業，ASML更是超過Canon，一躍成為光刻機領域排名世界第二，僅次於Nikon。

也正是這種危機感，讓Nikon和Canon這兩家東洋企業不計前嫌的聯手，研發下一代的157nm光刻機。

而英特爾，摩托羅拉，AMD等看到這一幕，向Nikon和Canon提出了休戰合議，就是組建EUV-LLC聯盟（極紫外光刻技術），由這些公司投資參股Nikon和Canon剝離光刻機部門，這種簡直就是搶劫的行為，東洋那邊一片罵聲，當然不會同意。

當年的廣場協定，可把東洋坑的不輕，這次自然不願意再當上當的傻比。

於是英特爾，摩托羅拉，AMD這些企業又找到ASML，提出可以提供資金研發EUV光刻機，才有了ASML現在的路線爭論。

「還有對雕刻源的選擇，除了DUV和EUV，XPL（X射線近場光刻）、電子束光刻和離子投影光刻，這四種雕刻源代表著四個不同的方向，全球都有企業和研發機構在推進這些雕刻技術。不過除了這些，目前在公司裡面呼聲最高的是193nm浸潤式光刻技術。」

趙長安聽的愣了一下，有點驚訝的望著蕭揚名。

「在去年底的全球SPIE微光刻會議上，MIT的報告表明，在純水環境157nm技術有著太多的難題和不穩定性，然而對於193nm，則和空氣中的數據幾乎沒有任何的區別。」

蕭揚名說道：「長安你可能沒太明白這個報告的意義，其實只要你事後稍微想一下就明白了，尤其你也是微電子專業。這也就是意味著可以利用成熟的193nm工藝，浸潤式微影技術將鏡頭與晶圓的介質從折射率n~1的空氣，改成ｎ= 1.44的水（對應波長為193納米光），形同將波長等效縮小為134納米。這樣就解決了這個最根本的波長問題。」

「這個技術呼聲最高的是飛利浦，英特爾，卡爾蔡司，這些EUV-LLC聯盟成員。因為一旦成功，ASML的市場份額就會從全球第二，進入全球第一，而且把Nikon和Canon甩開一個斷層。不過這個技術上的難題依然很多，同樣是即使投入大量的資源，也不能說就一定可以研發成功。」