第231章 第四代光刻機（1/2）

第四代光刻機應該是個什麼樣子？應該具備那些參數？這些東西，此時都已經裝在了趙燁的腦子裡。

首先，光刻機，顧名思義，要有光。

光是雷射，而能用於工業生產上的雷射，也就是那麼幾個波段。目前來講，趙燁他的應用的還是跟二十年前的一樣的高壓汞燈。

只不過這種燈也更新換代好幾次了，提供的雷射波長如今已經到了436nm。光源的波長，直接影響著晶片工藝的製程。

簡單理解，這個波長就好比鑿子的寬度，你想用一厘米寬的鑿子，雕刻半厘米寬的線。這幾乎是不可能的。

這裡用幾乎，當然就有特殊情況了。就比如趙燁他們搞得浸入式技術。在晶圓表層注入一毫米純淨水，利用水對光的折射，進而改變雷射的波長。

這個技術，目前還是國內光刻機行業的絕密，所有接觸和知道這項技術的人，不客氣的講，都在保密部門的監督下生活著，只不過他們自己不知道或者裝作不知道而已。

說這些，是因為趙燁想要提高製程工藝，第一步要解決的就是光源的問題。

高壓汞燈還能在進步幾個波次，這項技術，還沒有到達他的極限。

對於沒有嚼乾淨味道的口香糖，趙燁是不會輕易吐掉的。所以第一個任務，就是攻克高壓汞燈的極限。把436nm和365nm波長的雷射，做到工業生產的級別。

有了波長436nm的光刻光源，趙燁就能把利華當前的製程工藝提升到800-1200nm之間。使得利華高端晶片的製程，全面進入納米級別。

他的第二波次，是把製程進步到350-500nm。相應地要用到更短的波長，即365nm的光源。

而剛好436nm和365nm分別是高壓汞燈中能量最高、波長最短的兩個譜線。如此一來，不但能更高效的進行工業化生產，還能大大提高晶片的性能。

趙燁計劃用這兩個波次的高端晶片，直接衝擊目前的晶片市場。只要兩個波次的時間把握好了，趙燁有信心，就這麼一下，市場上的光刻機生產商，最少得倒下一多半兒。

完善和研發成熟的高壓汞燈這項任務，落到了近些年來，主攻雷射燈泉教授頭上。趙燁這次沒有「吝嗇」，該給的方案都給了眾人。現在已經沒有保留的必要了，他最新的方案，已經準備放棄汞燈的路線，開發全新的光源系統。

新的光源系統組，毫無意外的落到了欣然的頭上。這個今年才24歲的小丫頭，目前正在準備結婚。趙燁為此親自找到慈教授，讓他去做他孫子的工作。接下來的一到兩年，他是不準備給欣然走出實驗室的機會了。

「欣然，還有諸位，接下來，你們的新項目，是開發一種準分子雷射，利用這種準分子雷射，得到大功率的，能進行光刻的深紫外光。當前，你們的任務就是把這種雷射做出來。做出來以後，我們再在其中，選出我們可以利用的波長。」說完，趙燁就開始給他的學生們發資料。

看著文件上的信息，就連欣然也感到頭皮發麻。這種技術要求太高了，目前看來，就跟外星科技一樣。

欣然只是震驚了一下，就趕緊收斂心神，認真的聽趙燁講解技術難點和細節設想。

在趙燁的講解中，欣然等研究員，駭然的發現，趙燁這個導師已經把製程精度定在了350nm以下了。這意味著，他們要研發的光源波長，不能超過也300nm。事實也正如如此，趙燁給出的目標是兩個波段的要求，248nm和193nm。

這個要求，已經達到他前世九十年代末和新世紀初的技術水平了。可想而知，在當下的八十年代初，各方面的理論基礎都不完備的情況下，這個項目組要面臨怎麼樣的困難。

不過這並沒有讓這幫研究員們氣餒，因為他們也不是特別清楚這到底意味著什麼。他們只知道的是，他們的導師回歸一線了，他們又能愉快的攀爬技術高峰了。

這幫人對趙燁的信心，簡直比趙燁對系統爸爸的信心還要足。

光源只是第一步，當然也是最重要的一步。沒有這個基礎，其他的東西想都不要想。

在給光源組布置好了任務以後，趙燁下一個目標就是透鏡組。

此時趙燁他們應用的透鏡，是川省一個光學儀器研究所的產品。在他們應用的光刻機上，這些透鏡組有大大小小几十個，重量加起來絕對超過上千斤。

而即便是這樣，趙燁依然又給出了更高的要求。透鏡本身也是要消耗能量的，如果即能提高鏡片的透光度，又能保證鏡片研磨的平整度，還能減少對特定波長雷射的損耗，就是擺在研究員和技師們面前最大的困難。

對於透鏡組來講，不單單是需要好學問的研究員，更加需要好手藝的技術工人。

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