第243章 見證歷史性時刻（1/2）
伴隨著會議室內的低沉氛圍，被一位高級架構工程師出言打斷，桌子兩旁坐著的其他人也不再沉默，紛紛接過話茬發表自己的意見。
「我同意羅克的觀點，想實現理論的實際應用，無論在哪個領域內都不是簡單的事情。」
「徐雖能憑藉自身數學天賦，構建出新的理論，但沒有經過長期流片驗證，他們的算法不可能成熟，後續必然會出現各種問題無法保證效率，況且他們究竟能否研發出極紫外光刻機，還是一項值得商酌的問題。」
「晶片設計軟體，要和光刻機配套使用，我也認為目前來看不會對我們造成影響。」
「他們的極紫外光刻機，肯定比不上阿斯麥的產品。」
特德斯將幾位高管和工程師的話聽進耳中，相比較剛才回會議剛開始的時候，臉色逐漸緩和下來好看不少。
沒錯。
成熟的系統需要時間檢驗，何況還是兩年不到，便構建出的理論和算法。
就算眼下有了數學理論支撐，照樣無法確認，璇璣系統真能實現精準預測和數字流片。
說不定等真正的流片數據出來，會和璇璣系統公布的仿真結果相差很大，根本比不過自家公司的產品。
另外先進的極紫外光刻機，更是最為關鍵。
若無法攻克這項難關，縱使開發出優秀的新一代EDA工具算法，照樣不會被市場認可接受，畢竟阿斯麥公司研發的光刻機可不是主動和璇璣系統進行對接。
先前突然看到華天科技的公告，又聯想到國家科學院方面的提醒，這才一時急切立刻召開緊急會議。
待情緒逐漸平復下來後，倒是覺得自己過於擔心了。
他緩緩吐出一個濁氣，手指輕敲著桌面，稍微頓了兩秒看向眾人沉聲講話。
「阿斯麥很快就要正式發布極紫外光刻機，我們的算法工具也將同步優化升級，反觀對面雖宣稱已經解決極紫外光源問題，但到現在都沒有新的進展。」
「連開發的晶片設計軟體，都無法進行流片驗證，只能通過數字流片平台自欺欺人。」
「從整體層面來分析，確實對我們的影響很有限。」
不過說這些時眉頭舒展歸舒展，倒也沒有完全輕視徐銘在數學領域的貢獻。
幾乎是話音剛剛落下，便把視線移動到，左手旁公司的核心白人工程師羅克身上面。
主動向其拋出一個問題。
「羅克。」
「既然這項徐氏變換，已被數學界驗證，重新書寫了隨機分析問題的工具，給出新研究方向，我們能否將此項理論應用到公司的軟體系統上？」
留著濃密鬍鬚，大約四十歲左右的羅克，面對自己老闆的詢問立刻回答。
全程沒有任何遲疑。
顯然在會議尚未開始的時候，他就已經思考過。
「這並不是一個很好的主意。」
「徐構建的徐氏變換，框架非常複雜，我想全世界除他之外很難具體應用。」
「另外我們的軟體雖採取傳統理論架構開發，但卻非常成熟經過了市場檢驗，若更換為徐氏變換相當於重新設計一款全新的算法工具。」
「很有可能會給公司帶來巨大損失。」
羅克的這番話，得到了現場其他人同意。
雖沒有立刻接過話茬附和，基本都在微微點頭表示。
特德斯聞言也不再多提，只是臉色略顯遺憾，不過這也是沒有辦法的事，畢竟像徐銘這樣的天才，多少年來全世界也就出現了他一位。
「那就暫時擱置吧，可惜當初徐沒有選擇，加入我們的國家科學院。」
最終沉聲感嘆一聲，主動結束同工程師羅克的對話。
而接下來的時間，特德斯也沒浪費，索性趁著公司高管和核心工程師都坐在這裡，便又吩咐起後續任務。
其中最為重要的，就是全力優化升級產品，配合阿斯麥的極紫外光刻機同步推出。
屆時徹底拉開和華國的半導體技術差距。
如此他們便又能占據主導地位，迫使對方服軟商議。
「誰還有意見？」
特德斯此刻重新恢復成，以往那副自信沉穩，會議結束時環視眾人開口詢問。
坐在辦公桌兩旁的其他人，則微微搖頭，沒有異議。
將這幕看在眼裡，特德斯方脫口吐出一個單詞。
「散會。」
然就在其他人都起身離開後，作為公司資深的高級架構工程師羅克，卻依舊坐在自己座位上沒有起身，臉上表情快速閃過一抹憂慮之色。
其實剛才老闆講那句話時，他本想發言，奈何嘴唇微動之下還是把話咽了回去。
他儘管不太相信，使用全新理論，僅用兩年不到開發的璇璣系統，真能引領晶片設計行業的技術變革。
可架不住徐銘創造出的一項項奇蹟。
在大學階段時，他也曾深入研究過理論數學，雖沒堅持多長時間，卻十分清楚其中的難度，單研究學科分支中的某項小的猜想問題，都要花費海量時間精力，且還離不開相應的數學天賦。
更不用講世界級七大數學難題。
結果徐銘不但輕鬆證明，還一言不合就構建出，全新的數學理論體系。
不斷增加數學領域的知識。
面對如此天才存在，萬一開發的算法系統，真能顛覆現有的技術水平。
那對整個行業來講，無疑是場巨大的衝擊。
但這樣在外界眾人看來，根本不可能的事情，他就算在會議上進行提醒，大概率也不會有啥結果。
「或許徐只擅長數學理論研究，並沒有具體參與到璇璣系統算法的開發。」
思維快速運轉下，自顧自低喃這麼句，下秒才動手收拾完桌面上的東西邁步離開。
新思科技的會議結果，當天便同步給了，另外幾家行業內的龍頭公司。
並且成功達成一致意見。
不認為華天科技發布的最新公告，能夠為璇璣系統的處境帶來什麼樣變化。
但為了進一步施加壓力，扭轉網上的議論，就在徐氏變換熱度逐漸下降時，包括新思在內的海外三大EDA公司以及阿斯麥半導體設備，共同宣布將在明年正式推出工藝更為精密的極紫外光刻機。
可用於製造7納米以及5納米規格晶片。
配套相應的設計軟體。
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