第567章 你相信科研夢想嗎（1/2）

周六，又是一個大晴天，陽光透過樹葉，鋪灑在咖啡館外的草坪上。

許青舟見到了中大的鄭旭教授，看起來三十多歲的模樣，模樣清雋，一看就知道是那種喜歡埋頭實驗，不善言辭的學者。

「鄭教授，請坐。」

「您好，許教授。」

鄭旭坐下的同時也在觀察許青舟，雖然在電視上看到過好幾次，但首次見面，依舊會有點吃驚。

年輕得可怕。

年輕歸年輕，這位許教授身上有一種不屬於這個年齡的從容和沉穩。

「鄭教授，你曾經在美國SLAC國家加速器實驗室工作過五年，我看了你在這個期間的論文，可以說非常精彩。同時，我還看了你去年的磁電物性分析與器件實驗，差距很大，可以說是失敗的實驗。」

許青舟翻看著手中的資料，沉聲說道：「首先是材料穩定性問題，BiFeO薄膜在多次電場循環後出現氧空位遷移，導致磁電耦合效率下降30%。其次是工藝兼容性限制，超薄多鐵薄膜的均勻性與CMOS工藝兼容性不足，良品率僅65%。」

其實，許青舟超導薄膜上的專利技術就能用到鄭旭的實驗裡，例如引用梯度摻雜技術，即La摻雜BiFeO，就可以抑制氧空位遷移。

保守估計，至少能讓材料性能提升30%。

「是的。」

鄭旭露出了落寞的表情，點頭承認，懊惱地說：「實驗的結果和我預想的相去甚遠，甚至漏洞百出。」

「您方便說說原因？」許青舟點點頭。

鄭旭無奈地說道：「院裡另外一個項目的經費不足，最後，我的項目經費被砍掉了20%，周期縮短了三分之一，有些改進方案還沒來得及實施。」

許青舟笑著問：「介意我看看改進方案嗎？」

「當然沒問題。」鄭旭把電腦打開，很快就找到曾經的方案，鄭重地說道：「這是兩個主要方案，請許教授多多指教。」

許青舟把兩個方案都大致掃了一眼。

第一種，是引入梯度摻雜技術。

思路和許青舟他們的相似，姑且算得上是超導薄膜實驗中的簡化版。

第二個方案基於工藝革新，想要開發原子層沉積（ALD）技術提升薄膜均勻性。

「嗯，這兩套方案做下來，你們樣品的性能還能提升20%左右。就是.有些地方仍然可以繼續改進。」

鄭旭心中感嘆許青舟果然是專業的，聽到後面一句，眼前亮了亮，立刻拿出手稿，一副要驗算的模樣：「您說。」

「改進的地方有機會再說，咱們聊聊別的。」

瞧著對方狂熱的樣子，許青舟有些無奈，心說：得，這位鄭教授還是個科學狂人。

鄭旭也發現自己跑題了，乾咳一聲，不好意思地收起手稿。

許青舟把資料還給鄭旭，還是問道：「你在中大有自己的項目組，為什麼會想來這個剛成立的研究所？」

鄭旭苦笑著說道：「我說因為科研夢想，你相信嗎？」

「為什麼不相信？」許青舟反問。

鄭旭愣了愣，年輕時候提科研夢，可能會有人誇讚你有志向，但他這個年紀別人更可能會讓他別太天真。

理想主義沒用，要著眼現實。

是了，許教授也是拒絕了國外的高薪回國的。

鄭旭頗有一種找到知音的感覺。

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