第486章 要不要一起看簡單場景的電影？（1/2）

實驗室，許青舟沒參與卡森等人的閒聊，注意力集中在參數面板上。

CVD生長，在H/Ar（流量比1:10）氣氛中升溫至1050°C，通入CH（10 ）生長，接下來就是長達4個小時的等待。

搞定完第一步，許青舟留守實驗室，卡森三個人去吃飯，沒多久，實驗室中僅僅剩下設備運行時的低沉聲音。

他仔細檢查完設備運行情況，轉身去隔壁的辦公室，打開電腦，看CVD生長的情況。

見數據什麼都沒問題，他從包里掏出NbSn薄膜製備的資料。

實驗過程中會遇到兩個大問題，界面應力與成分控制難題，這在一定程度上決定了薄膜能達到的性能。

對於前者，許青舟以前用過的一種方式，低溫ALD和梯度退火，想辦法減少熱膨脹係數。

雖然當時是用在矽基量子點的設計上，但萬變不離其宗，試試再說。

成分控制難題相對麻煩。

需要進行大量調整，例如進行前驅體優化，替換樣品，或者等離子體參數優化等等，目前也只能先做準備，一切都只有等第一輪實驗數據出來了再調整。

下午3點，許青舟和卡森再度進入實驗室。

冷卻至300°C後旋塗PMMA保護層。

最後，轉移到電化學剝離銅箔，撈取石墨烯至SiO/A。

這個步驟大約2小時。

留卡森檢查設備，許青舟回辦公室，打算再查查其他課題組的進度。

做前沿實驗的課題組會像「偵探」一樣關注對手動態，這在一定程度上可以加速科學突破，有競爭才會有壓力嘛。

當然，也可能會道心崩潰。

就比如曾經在普林斯頓，許青舟某天正在實驗室跑數據呢，突然聽到樓道里一陣大喊大叫。

走出一看，一位老哥哭得那叫一個悽慘。

後來才知道，這位老哥準備做兩個創新點，幹了幾個月，第一個創新點被其他課題組nature見刊。

老哥立刻換了第二個創新點，可干一個月左右才發現，又被science見刊了。

於是，兩次衝擊下，繃不住了。

當然，搞科研嘛，其實就算小撞，稍微修一下也能發表。

不過許青舟他們這個倒不存在這個問題。

普林斯頓大學研究的是二維超導薄膜，具體來說是拓撲超導與馬約拉納零能模，目標是把界面缺陷密度降低90%，以便推動容錯量子計算發展。

日國著眼於氮化鈮（NbN）薄膜，希望能增強抗磁場干擾能力，把相干時間延長至400微秒以上。

夏國目前在研究高溫超導薄膜，希望能設計出無需極低溫設備的量子晶片。

在超導薄膜方面，新一輪競爭剛剛開始，大家目前似乎都沒有什麼關鍵性進展。

下午4點。

孫思敏和馬爾斯上完課兩人進來。

許青舟給他們遞過去兩張手稿：「這裡有個書單，希望你們在一個月之內看完。」

在基於ALD與石墨烯襯底的無襯底NbSn薄膜製備實驗中，涉及多個數學領域的理論和方法。

需要用到常微分方程和偏微分方程來描述實驗過程中樣品的反應情況，預測薄膜生長速度，還有線性代數，統計學裡邊的回歸分析等等。

既然加入實驗，也不能純打雜或者當吉祥物。

「啊，教授，您確定自己沒開玩笑，一個月，三本書？」

馬爾斯苦著臉。

「當然，一個月之後我會出題，如果沒過的話，我不介意為自己省點出工資的錢你們知道，咱們課題組經費比較緊張，不需要只會擦桌子的人。」許青舟笑著說道。

他還是決定給他們一點壓力，這倆人很有天賦，拼一拼沒問題。

「啊~」

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