第319章 光刻機魔改一下？（1/2）

2003年1月2號在信息產業部會議室里的這場大戲，直到多年後仍然時不時被與會的一些科研大佬提起。

這是顧松第一次在燧石研究院以外顯露本領。

韓經緯是真的服了，再不懷疑倪光北的說法。

顧松答完第三個問題之後，就停止了這個「遊戲」。他很乾脆地說：「足夠了吧？大家覺得我是狂妄也行，我需要對結果負責，我選擇相信我自己。」

一個個人，老的少的男的女的，都神情複雜。

不是覺得你狂妄，是真有點狂妄啊。

可是……不服氣也不行啊。看那3個提了問題的人一臉興奮的樣子，就知道這小子簡直不是人。

顧松揉著太陽穴：「這一搞，又浪費了一個小時時間。對於芯火科技的設備引進，就真的沒有思路和辦法了嗎？」

剛才密集地進入意識空間，衝擊還是挺大的。

關鍵是大佬們的提問不好回答，又不是準備很充分的領域。

見顧松有提起這個問題，章儒京問道：「能在12寸晶圓上工作的初代光刻機，和現在最新的型號在製程工藝上都有充分可挖掘的空間。顧總如果有辦法讓這個型號的光刻機發揮出最高的效能出來，應該也能滿足工藝的需要。」

顧松心中一動。

好像……可以魔改一下嘞？

已經過去的2002年，灣積電那邊的林木堅才剛提出浸潤式光刻的概念，還沒有得到普遍認同。英特爾還在吭哧吭哧地往157納米波長的光刻機里砸錢，但用193納米波長的光刻機加上浸潤式光刻技術，可以實現134納米的波長，比157納米的極限還高。

這樣一來還搞毛的157納米波長光刻機？

英特爾被迫掉了個頭，而灣積電也成功七級跳，一舉成為最大的巨頭之一。

現在這個時間點……大家都還在研究嘞，第一台浸潤式光刻機還沒研發成功來著。

現在研發牛逼的光刻機來不及，魔改一下……可以試試？

雖然以現在國內的製造工藝水平，可能根本搞不定。但是外掛都開到這種程度了，不需要再過於小心翼翼了吧？

在章儒京眼中，顧松是扶著額頭在思考。

但其實他已經又咬咬牙，鑽到意識空間裡去了。

在裡面，一呆又是將近半個小時。

「193納米波長的乾式光刻機，實現浸潤式光刻的改造方案？製造工藝水平要求最低的改造方案？」

人工智慧謝茵然有宕機的跡象。

立體投影里出現一堆圖形和數據。

「基於哪一個型號的光刻機進行改造？」

面對謝茵然的疑問，顧松果斷地指了指其中的兩台。一台是剛才章儒京說能搞到的最好的，一台是次先進的。

接下來，顧松就在裡面等著改造方案。

雖然讓滬海微電子裝備現在直接研製國產光刻機難度大到沒邊，但自己這邊有整套方案的話，讓他們協助著魔改一下，可是可以預期的。

如果這樣一來，相當於把製程水平可以往上拔至少2到3個時代啊。

如果真能實現的話……8寸晶圓生產線上做出來的產品，競爭力也大到足夠啊。

是不是乾脆就把章儒京的一條生產線魔改一下呢？

入個股？

……

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