第315章：光刻與蝕刻，晶片製造的魂與魄（1/2）

研發中心內，一間大型實驗室封閉的防盜鋼化玻璃門，葉華等人接近三五米左右的時候，「哧」的一聲，玻璃門驟然自行打開。

此時葉華及其該研發中心的負責人和中微半導體的一名重要負責人一併來到了這間實驗室內，各種儀器設備立馬暴露在眾人的視野中，尤其是在實驗室的中央位置，一個四米多高、矩陣體結構的設備尤為矚目。

實驗室有幾名頗為年輕的工程師，而此時穿著無塵服的葉華也不對研發部的負責人請示什麼，直接親自上陣，對著那幾名工程師說道：「別愣著，開始吧。」

他們猶豫了片刻，在研發部負責人默默點頭下，立馬開始工作。

好吧，這裡是微電子公司的實驗室，按理說核心科技是不能被其他人「染指」的，不過葉華除外，沒有他可就沒有眼前這台國產的EUV極紫外光刻機啊。

只見得葉華嫻熟的打開了這台完全由國產配件自主研發的光刻機，內部頓時出現了一個錐體漏斗狀的儀器設備，這個儀器勾架在頂部，兩指寬左右的電纜線密布著，外層紫銅線層層環繞著，裸露的機體的內部，成千上萬個零件密密麻麻對齊連結在一起，形成了一個精密的微型化封閉結構，以較小的角度近距離俯瞰非常壯觀。

葉華指揮著五個協助他的工程師進行最後的調試作業，一名工作人員把他帶來的密封箱取來從中取出錫烯二維晶圓，這是製作好的錫圓片。

晶片的製造工藝流程是非常複雜的，首先是先豐納米公司提供了高純度的錫烯二維晶體薄膜，在吸收了信越化工在原材料工藝製作的核心技術後，先豐納米把錫烯材料的純度也提高到了全世界最頂尖的層面。

值得一提的是，製作晶片除了需要光刻機之外，還需要蝕刻機，如果說光刻機是晶片製造的魂，那麼蝕刻機就是晶片製造的魄，想要製造出真正的高端工藝晶片，這兩樣都必須是頂尖的。

而在此之前，國產光刻機和蝕刻機的發展非常尷尬，屬於嚴重偏科的情況，中微半導體已經可以進行5納米級別的蝕刻機量產，直接無懸念的邁入世界一流行列，量子蝕刻機也在試驗階段了，這可是沒有葉華幫助的結果。

但是光刻機企業不管是商都的微電子的90納米級光刻機，還是影速的200納米級光刻機，與當前世界ASML最先進的5納米級製程都是難以望其項背的差距。

這倆機器設備，簡單的說就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的矽片上，當然現在是錫片，而蝕刻機再把畫了電路圖的晶片上的多餘電路圖腐蝕掉，這樣看起來似乎沒有什麼難度，但是有一個形象的比喻，每一塊晶片上面的電路機構放大無數倍來看，比整個商都都複雜數倍，這就是光刻機和蝕刻機的難度。

光刻的過程就是現在製作好的錫圓表面塗上一層光刻膠，所謂光刻膠就是一種可以被光腐蝕的膠狀物質，接下來通過極紫外光線（即：工藝難度紫外光<深度紫外光<極紫外光）透過掩膜映射到錫圓表面，類似於投影。

因為光刻膠的覆蓋，照射到的部分會被腐蝕掉，沒有光照的部分則被留下來，這部分就是所需要的電路結構了。

光刻機的光刻作用就類似於照相機照相，工作原理便是將晶片路線與功能的電路圖通過具有圖形的光罩對塗有光刻機晶片晶元進行曝光，光刻膠見光之後會發生性質變化，從而使得光罩上得到電路複印到晶片晶元上。

形象的說就像平面印刷工藝，一旦確定架構方案，只要原材料充足，刷刷刷的放量生產就完事了。

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