第376章 極紫外光刻機（1/2）

蘇揚看了半秒劉元龍，道：「這些設備，的確是最新的半導體核心設備，尤其是光刻機。」

說著，指著光刻機道：「這台光刻機裡面的雷射器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。」

蘇揚繼續道：「另外，掩膜台的運動控制精度達到納米級，物鏡、量台、曝光台、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最先進的產品。」

「當然，最主要的還是這台光刻機的光源，並非是目前國際國內流行的深紫外光。」

「所採用的光是13.5nm的軟X射線，也就是極紫外光作為光源。」

蘇揚的話音落下。

現場陡然變得一片寂靜。

四名高冷的保鏢們不知所云，作為退役的軍人，他們對這些科技玩意兒一無所知，完全聽得雲裡霧裡。

但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又覺得boss的話不明覺厲。

短暫的寂靜之後，便是一片譁然，安正國等七人議論紛紛。

「這……」

「採用的是13.5nm的極紫外光？」

「怎麼可能，我前兩天才剛剛看的新聞，尼康公司的光刻機，也才在準備進發32nm半導體工藝，而光源依舊用的是193nm的深紫外光啊！」

「是啊，曝光波長一下子降到13.5nm，這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特徵尺寸了！！！」

「蘇總，您別不是在逗我們開心啊，現在全球範圍內，絕對沒有任何一家半導體公司，能造出這樣的設備！」

「蘇總，這到底是真是假啊！」

幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。

作為半導體製造業皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。

晶片在生產中需要進行20-30次的光刻，耗時占到IC生產環節的50%左右，占晶片生產成本的三分之一。

通常意義上來說，只要解決光刻機的問題，那麼晶片製造的工程，就完結了一半。

因此，也不怪幾個搞半導體的傢伙，像是痴·漢一樣看著他。

蘇揚笑道：「行了，你們也別這樣看我，是真是假，我嘴上說了也沒用，召集人員進行一次實驗，不就一目了然了？安總，工廠內應該是有光刻膠和矽片的吧？」

安正國一愣，連忙道：「有，都儲存著呢，我馬上找人來進行實驗。」

說著，安正國立刻召集人手，搬來相應的半導體材料。

半導體晶片生產主要分為IC設計、IC製造、IC封測三大環節。

所謂IC，就是集成電路的英文簡寫。

IC設計是高端技術，也是inter等公司，能屹立於半導體行業巔峰最重要的因素之一。

主要根據晶片的設計目的，進行邏輯設計和規則制定，並根據設計圖製作掩模，以供後續光刻步驟使用。

而IC製造，就是半導體晶片的製造了。

一般，要實現晶片電路圖從掩模上轉移至矽片上，並實現預定的晶片功能。

包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。

至於IC封測，就是完成對晶片的封裝和性能、功能測試，是產品交付前的最後工序。

IC設計就不提了，蘇揚有蘋果A6處理器的技術，其中就包括了32nm晶片的設計。

另外，商城掛著的inter酷睿系列，也有45nm——14nm晶片的工藝技術。

而在IC製造中，光刻又是半導體晶片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。

其中的難點和關鍵點，在於將電路圖從掩模上轉移至矽片上。

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