第二百九十九章 摩爾定律你聽說過沒有（2/2）

光刻的原理，與沖洗照片是一樣的。首先，要把電路圖製作成底片，稱為掩膜。光源通過掩膜照射在塗了光刻膠的晶片基材上。

光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成，其中的感光劑在光線照射下會發生反應，使曝光區的光刻膠溶解，這就相當於把掩膜上的電路圖案複製到了晶片基材上。

隨後，再進行蝕刻、離子注入、封裝等操作，一枚晶片就製作完成了。

光刻膠中感光劑的選擇，與光源是密切相關的，這涉及到化合物在不同波長光線作用下的變化，機理十分複雜。

徐雲是知道這些概念的。他原本就是物理系的學生，楓林研究所聘請他的老師前來參與這個項目，就是因為其中涉及到一些光學方面的問題。他在項目組裡耳濡目染了這麼久，對於這些問題自然是非常了解的。

聽到高凡的問題，徐雲也只能把心裡那些雜念拋開，認真地答道：「我們現在研究的重點，就是G線光刻膠，這也是目前應用最廣泛的。

「i線光刻膠這方面，畢主任在實驗室會議上提過幾次，讓大家有時間做一些積累，不過目前條件還不成熟。再至於說KrF光刻膠，好像國外也剛剛開始研究吧？」

「你說i線光刻膠的條件不成熟，是指什麼？」高凡問道。

徐雲道：「不是我說的，而是畢主任說的。現在國內根本就沒有使用i線光源的光刻機，國外也不多，研究i線光刻膠，是不是有些操之過急了？」

「我想跟你說的，就是這個。」高凡說，「對了，徐師兄，摩爾定律你聽說過沒有？」

「當然聽說過。」徐雲不忿地說，「不就是集成電路上的電晶體數量，每兩年就增加一倍嗎？我們好幾個老師上課的時候都提過。」

「不愧是科大，思維很前衛。」高凡翹個大拇指，贊了一句，卻換來了徐雲一個白眼。

摩爾定律是1965年提出的，不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術的迅猛發展，摩爾定律一再得到印證，一時間在西方科技界和產業界倍受推崇。

此時的中國，在全球半導體市場上完全是小透明，根本不具備評論半導體產業發展的資格，因此也就沒什麼人會關注和提及摩爾定律。

徐雲說他有好幾位老師上課時候都提過摩爾定律，高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份，擺出這樣一副嘴臉來誇獎中科大，徐雲怎麼能不對他表示一番鄙夷。

「既然你知道摩爾定律，那麼你想想看，晶片製造技術將會以什麼樣的速度發展？G線光刻機肯定很快就會落伍，下一代i線光刻機會迅速普及。不出十年，市場主流就會是KrF光刻機。」高凡侃侃而談。

徐雲在心裡默想了一下，點點頭道：「你說得有理，不過，這也是國際市場的潮流吧？咱們國內現在連G線光刻機都沒能掌握，你說的KrF，怎麼也得是20年以後的事情了。」

「我們為什麼就不能瞄準國際市場呢？」高凡看著徐雲，「造光刻機，需要高精密工具機，咱們一時造不出來。可是光刻膠的技術沒多高的門檻，咱們為什麼不能提前一步占領這個市場呢？」