第一百六十四章 恐怖的方向（1/2）

王易開始了時不時進入超頻的一個長期實驗狀態，外面的事都由林詩琴把控，可以便宜行事。

一直也沒有被打斷進程。

其實在完成了a1隱形眼鏡鏡片後，王易就一直在摸索魔力鎖定電子能級，使得電子不吸收高能光子讓高能光束可以通過。

（這裡可以複習一下105章後半段，畢竟掛在科幻頻道，一些基本的還是要符合一下的好點。）

一直以來的研究也按部就班的還算順利，樹脂透光的波長一直到了150nm左右。

這可以說已經是相當誇張的一個成績！

當前極紫外線euv光刻機還停留在阿斯麥的實驗室階段，或許已經出現了雛形和原型機，但euv光刻機的本來目的是要量產晶片，加上需要真空環境，所以不管是到光刻機可以量產晶片還是到光刻機本身的商業化都還需要時間。

目前最頂尖的光刻機，是阿斯麥彎道超車與積電理論合作弄出來的193nm波長浸潤式duv光刻機，因為利用液體折射率，使得明明193nm的深紫外線波長極限精度可以大大增加。

雖說目前普遍晶片工藝都還是20nm以上，但浸潤式的duv光刻機理論精度可以達到極限7nm，不過要做到這一點也得配套的工藝上來，不是誰都能達到的。

以前光刻機巨頭的康尼和佳能，就是一直採用乾式光刻機，只想著縮短光源波長，哪怕弄出了157nm波長光刻機也依然被阿斯麥無情的彎道超車，從而失去了客戶。

這就是尖端科技，贏者通吃！

而duv光刻機哪怕只是深紫外線，想要選擇鏡頭也已經相當稀缺，可提供的選擇大概就是氟化鈣和氟化鋇。

深紫外線的光子能級太高了，太容易被吸收，這可是連臭氧層都進不來的光，樹脂什麼的就有些天方夜譚了。

可王易之前靠著魔力對樹脂內電子的加持，硬生生的擼到了150nm波長可以通過的程度。

理論上這玩意兒拿出來，已經能夠讓卡爾蔡司這種企業頭皮發麻，甚至對當前版本的光刻機進行一定程度的升級。

只是這對於王易來說，卻還是相當的不滿意。

他用的可是魔法科技，極限堆到150nm都這麼吃力了，未來euv光刻機已經接近x射線臨界值的5nm，光子能級可是超過了150nm深紫外線能級的十倍！

所以未來euv光刻機選擇的是不斷的反射來進行匯聚調整，最終只有4%左右的利用率，這對光源功率、反射材料與精度的需求都極高。

哪怕是王易，也不可能短時間全部克服這些問題！

畢竟5nm的極紫外線，連空氣都能電離了，反射材料本身也會有使用壽命的，還要考慮使用過程中光線對材料的破壞。

這種高精度的設備，只要有輕微的破壞都足夠導致天壤之別的結果。

所以彎道超車的話，王易要擼出足夠讓這級別光線通過的材料才行！

本來最開始，王易就是靠著法師塔魔力準備強壓，一步一步的將透光率提高，以力證道。

可這一次和這群數學家這麼久的交流後，卻完全為他打開了新的思路！

就像阿斯麥先是靠浸潤式光刻機彎道超車，然後在佳能、康尼也開始研究浸潤式，並想要利用以前積累的技術再次反超時，阿斯麥直接新開賽道弄出了euv光刻機，並一次性拉開了不可逾越的距離一樣。

現在王易也是完全換了一種思路，直接以魔力為能夠吸收光的電子賦能，形成某種程度上的魔力電離，然後再想辦法解決自由電子帶來的金屬性！

堵不如疏！

而如何壓制的辦法，也通過這段時間的頭腦風暴得到了相應的數學模型。

甚至，如果這個方向繼續走下去的話，除了能製作出能通過極紫外線，乃至x射線的鏡頭外。

還能牽扯到一個相當恐怖的應用區域。

原子結構改變與聚變反應！

聚變的本質是要讓低序列元素的原子結構發生破壞，原子核互相結合成新元素。

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