第255章 打小報告的黃鶴（2/2）

木村真琴大概就是這樣的情況，且不說阿斯麥的事情，如果十台光刻機是真的，那木村真琴無論如何道歉，也要把黃鶴這個客戶給籠絡到手中的。

「日本人能夠成功，果然不是沒有原因的！」黃鶴感嘆一聲，然後接著說道「既然木村社長的態度如此誠懇，那我也不跟您彎彎繞繞了，我直接說吧，阿斯麥已經得到了跨越50納米的技術極限的鑰匙了，最遲兩年的時間，阿斯麥的第1台48納米級別的光刻機就能夠上市。」

「這不可能！」木村真琴又一次高呼出了不可能三個字，但這一回他腦門上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在這一瞬間被汗水給浸透了。

50納米的技術極限，這是全球捆在所有光刻機企業脖子上的繩索，自從10年前到達這個極限之後，無論是尼康還是佳能，幾乎每年都要投入1-2億美元的巨額資金來研發突破這個極限的途徑。

為了突破這個極限，全球各個光刻機行業的專家們提出了幾種途徑，其中包括157nm F2雷射，電子束投射，離子投射、EUV和X光，並形成了以下幾大陣營：

其中F2雷射技術，這是目前在理論和技術上最為成熟的陣營，在浸潤式光刻機出現之前，幾乎所有的光刻機企業研究的都是這個技術，目前是美國的SVG和日本的尼康，在這兩個技術上走的最遠，尤其是尼康，他們估計再有個5年左右的時間，就能夠拿出最終的產品出來了。

但是這個技術有一個巨大的缺陷，那就是生產成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且這個技術的天花板，也就是從50納米提高到了40納米左右，提升的幅度只有20%，是典型的投入和產出相差極大的案例。

如果用這種辦法製造出來的晶片，最早是現在同等級晶片的價格的三倍以上，如果投放到市場上，他未來所有頂級晶片的旗艦手機的起步價格，就最少要提交2000元人民幣左右了。

但這依然是目前最有可能成功的技術。

EUV技術，這是技術前景最為光明的，但也是最困難的技術，因為這個技術要從直接改革光源入手，將目前的光刻機光源改革成為紫光，直接從光源上，把50納米的極限提升到13.5納米的極限，提升幅度可謂巨大，絕對是市場前景最為廣闊的技術。

這個技術難度極高不說，關鍵是幾乎所有的專利和門檻都掌握在美國人的手裡面，分布在英特爾，AMD，摩托羅拉和美國能源部這些單位之中，尼康手裡面幾乎沒有這方面任何的技術專利。

本來作為美國的小老弟，以前的日本或許還有機會加入到這樣的專利聯盟手中，但是自從花園廣場協議一簽，所有日本人都知道美國是打定了主意要打壓日本的半導體行業，他們是絕不可能允許日本企業進入到EUV技術聯盟之中的，否則花園廣場協議就白簽了。

這裡就不得不說一句，其實美國是一家，非常公平和公正的國家，對於能夠威脅到自己技術優勢的對手，他們會立刻打壓。

同樣的，如果是自己的狗威脅到了自己的技術優勢，那也是一樣要打壓的。

比如在90年代後期，日本的半導體行業幾乎已經要將美國的半導體行業給徹底撕碎了，他們占據了90%以上的市場。

結果花園廣場協議一簽，日本半導體行業瞬間崩潰，等到了2020年，日本的半導體行業連苟延傳統的資格都沒有了，直接就變成了一具屍體，而日本政府卻只能對美國唯唯諾諾，連一句反對的聲音都聽不到。

不像中國，來，大家正面干。

咳咳，言歸正傳就，其實在技術上還有一個比EUV更加夢幻的技術，叫做接近式X光技術，這個技術可以將光源從13.5納米，一口氣提升到一納米的水平，這是顯然是一個更加瘋狂的光刻機技術。

而這也是目前整個日本光刻機行業傾力投入的技術，他們夢想著一旦等這個技術開花結果，那就算是EUV再怎麼排斥日本也是抓瞎，因為大家根本就不在一個水平面上面了。

只不過，倪光南曾經非常形象的形容過這個技術陣營，說這是一個浪漫主義的技術陣營，大家就當科幻小說來讀就好了。

其實後面還有更加科幻的技術，比如光源波長在千分之四納米的EBDW技術。

還有更加恐怖的光源波長在十萬分之五納米的IPL技術，這些技術，估計要等到擊敗三體人之後，才有可能看到了。

總而言之，目前尼康等企業正在全力投入的F2雷射技術，是目前最有可能成功的技術，也是尼康走的最遠的技術，但就算是這樣的技術，才能夠完成技術，然後進行生產……等到完全的商業化，恐怕就要等到2010年左右了。

結果黃鶴現在告訴尼康，阿斯麥只需要兩年的時間就能夠拿出突破極限的光刻機出來，領先了尼康足足三年以上的時間，木村真琴就算是當場暈倒，那也是正常的。