第四百一十一章：適用於碳基晶片的光刻膠（2/2）
科學家和常人的區別並不大，除了極少數一群人擁有極高的智商外，剩下的大部分科學家依賴的，是他們持之以恆的學習和對知識的探索。
谷甙
韓元看了眼彈幕，笑著將圖紙卷了起來。
其實到了現階段，他展不展示圖紙，或者說畫不畫圖紙對於他來說都已經沒什麼影響了。
在中央計算機中，有所有完整的數據和繪圖，是計算機可以識別並直接使用的那種。
他展示圖紙，其實是展示給那些蹲守在直播間裡面的科學家看的，或者說是展示給華國的科學家的。
畢竟看過圖紙和上面標註的一些信息數據後，對於後續的研究和復刻有很大的幫助。
捲起圖紙，韓元打開了廠房內的計算機外接設備。
後面新建起來的房屋，雖然都只有一層，但裡面都部署著網線和數據線，直連中央計算機的。
在廠房內的只有一套顯示屏和控制鍵盤，所有的數據，指令，都是通過中央計算機計算、運行和控制的。
當初在各個廠房以及實驗室內布線還折騰了一番才處理好。
倒不是韓元不想用無線來傳遞數據和控制信息，之前他也試過使用無線進行控制，但後面發現無線傳輸信息會有延遲。
而且遇到下雨天這種延遲現象會有些嚴重，如果僅僅是普通人的正常生活並沒有什麼影響。
就像他的居住室和工作間裡面的設備都用的無線傳輸信息一樣，稍有延遲也沒什麼問題。
但這個延遲放到控制精密精細度極高的工業設備上來就不行了。
特別是光刻機這種要求極高的，有個毫秒級別的延遲都會造成問題。
所以這些地方的數據傳輸和程序控制暫時只能走有線，無線控制可能還要等他再升級幾代信號發送器
通過中央計算機，韓元調用出來繪圖工具，而後將之前繪製好的部分圖紙傳遞到『MSC-CNC八軸六聯動數控加工設備』中去。
收到命令的數控設備自動啟動，一隻只的機械臂緊緊抓著他事先準備好的材料，然後按照制定程序一步步的走著加工流程。
韓元看了一眼正常運轉的『MSC-CNC八軸六聯動數控加工設備』，確認沒有問題後便又坐回了顯示屏前面，開始對照著圖紙編寫光刻機零部件的加工程序。
中央計算機組裝好後的這一段時間，他除了將計算機系統和各種軟體轉移進去外還編寫了一些光刻進零部件的加工程序。
只不過因為時間的關係，數量上並不多，再加上這一次適應碳基晶片光蝕的光刻機他準備全部重新弄，所以除了極少部分的零部件可以使用原先的外，其他的都需要重新製造。
這樣一來，光刻機的零部件加工就是一件相當耗費時間的事情了。
韓元慶幸的是工業設備整體想進行了一次升級，所有的設備中都填入了控制晶片並且連上了中央計算機，可以通過中央計算機直接進行管控。
其次是中央計算機也進行升級，可以做到一台計算機控制多台『MSC-CNC八軸六聯動數控加工設備』。
否則還像原先一樣，通過一台數控加工設備慢慢車，那需要的時間就算是二十四小時連軸轉動至少也是三四個月。
現在多台數控加工設備同時進行處理不同的零部件，總體效率提升了許多。
整體而言，韓元現在的工業設備廠房還缺少一台工業機器人以代替他來做一些搬運零部件之類的事情。
如果有了工業機器人，那麼以現在的工業設備以及中央計算機的能力，再加上小七的支持，完全可以做到無人化生產
一天忙碌十四個小時，花費了一周的時間，韓元總算將製造光刻機需要的零部件的加工程序編寫完成了。
這些大部分能通過數控設備加工的零部件他已經準備好了對應的合金。
通過衛星以及新中央計算機，再加上部署在廠房內的監控設備，遠在華國泰山的小七能掌控廠房各地的加工情況。
確保零部件加工的正常進行，以及出了問題可以第一時間聯繫他。
處理好零部件的加工程序後，韓元短暫的休息了一下，然後再度來到了化學實驗室。
之前在這邊是製造碳納米管、石墨烯單晶材料，現在則是製造適用於碳基晶片的光刻膠。
光刻膠這種東西，在矽基晶片的製造過程中是離不開的，其重要性自然不言而喻。
用於矽基晶片的光刻膠，主要是由成膜樹脂、光引發劑、溶劑組成的，有些可能還包含有抗氧化劑，均勻劑和增粘劑等輔助成分。
在矽基晶片進行表面加工時，採用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。
這是如何將掩膜版上的電路圖轉移到晶圓上的關鍵點之一，重要性堪比光刻機。
一塊晶片的精度，其實不僅受光刻機手術刀光波長的影響，同樣受光刻膠精度的制約。
如果光刻膠精度不夠，即便是光波波長夠了，也是加工不出來的。
所以光刻膠對於整個晶片行業來說，都有著至關重要的作用
頂級的碳基晶片和矽基晶片一樣，使用光刻機進加工製備，那麼自然同樣需要一種針對性的光刻膠來進行蝕刻處理。
而石墨烯晶圓和單晶矽晶圓，這兩種材料雖然都是半導體，但因為兩者的性質不同，對其進行曝光處理，需要的光刻膠自然不同。
光刻膠這東西，在矽基晶片上大體分兩種類型。
一正一負兩大類。
正性類型的光刻膠在塗抹到晶圓上，經過曝光、顯影處理後，曝光的區域被溶解，未曝光部分留下來，這就是正性類型光刻膠。
反之，則是負性類型光刻膠。
矽基晶片是這樣的，但碳基晶片不是。
碳和矽，就單質性質來說，碳的穩定性是要大於矽的。
而在兩者的半導體材料這一樣，石墨烯晶圓的穩定性同樣要大於單晶矽晶圓。
所以真正高精度的碳基光刻膠只有一種，那就是負性光刻膠