第二百七十二章：十納米級的碳基晶片？（1/2）
當韓元說出『雷射燒蝕法』和『電弧放電法』不適合十納米級以下的高精度碳基晶片侵蝕雕刻時，直播間裡面的觀眾都先是楞了一下，隨後迅速沸騰起來。
【我去，主播你怎麼知道的？】
【好傢夥！我踏馬直呼好傢夥！】
【『最愛綠茶婊』送出超級火箭*1，打劫！請將你手上的碳基晶片製備技術交出來！】
【雷射燒蝕法和電弧放電法不適合尖端的碳基晶片的電路圖雕刻，這說明了什麼？】
【說明了主播手上有....................................黃片？】
【神他媽黃片！！！！碳基晶片啊！！！！！！】
【笑死，一口汽水全噴手機屏幕上了。】
【矽基晶片的末日來了！】
【碳基晶片我們國家的技術好像是走在世界前列的吧？主播如果講的話，豈不是便宜了其他國家？】
【對啊，碳基晶片主播還是別講了吧！】
【你們的目光啊，怎麼這麼淺短？主播剛剛說了什麼？雷射燒蝕法和電弧放電法不適合尖端的碳基晶片的電路圖雕刻，這說明他手上有納米級的碳基晶片製造方法啊！！！！！！】
【不管怎麼說，我還是覺得便宜了外國佬。】
【誰說這個主播就是你們華國人了？我們大韓國也有『韓』這個姓氏的好嗎？】
【？？？？？】
虛擬屏幕上，無數彈幕擁擠而來，直播間裡面的觀眾簡直狂熱到不行。
別說觀眾了，就是各國的專家，在聽到韓元的話語時，都集體心跳漏了半拍，隨後劇烈的跳動起來。
皮米級的光刻機製備技術！
納米級的碳基晶片！
連續不斷的黑科技從這名主播口中說出來炸的各國專家和領導人頭暈目眩的。
不少專家和科學家看著直播宛如哮喘發作了一樣，胸口緊悶，呼吸不上來。
「這個人的大腦中，到底有多少知識？」
此刻，無數專家科學家們腦海中共同浮現出這一想法。
從兩年前的荒野求生開始，到後面的鐵器製備，再到電氣時代到資訊時代。
這名主播還能走多遠？
是進入宇宙星空？還是製造出曲率引擎？
縱然作為地球上學識最為淵博的一批人，此刻這些頂級專家和科學家們也有些迷茫了。
他們以為自己儘量高估了韓元的科技，但沒想到還是低估了。
別說皮米級的光刻機製備技術了，人類目前連兩納米級的光刻機技術都還沒有突破。
一台光刻機，最難的點在於雕刻晶片用的『刀具』，也就是紫外光光源。
當然，這裡的光源指的是包括曝光系統、鏡片、反光鏡等整體的在內的光源控制系統。
從光源的輸入，到讓光線穿過層層疊疊的鏡片多次折射不出偏差、到最終達到納米級別的雕刻精度。
其難度之大，世界各國沒有任何一家公司可以獨立完成所有環節。
就比如風車國的AMSL公司，這家全球最頂尖的光刻機生產公司，他們生產的光刻機，其配件來自世界各地。
而其中的關鍵，雕刻用的刀具就來自米國的光源、日耳曼國的鏡頭和機械技術。
就拿光刻機中的反射鏡來說，如果反射鏡的面積放到到整個日耳曼國那麼大，那麼最高凸起不能超過一厘米。
其鏡片的打磨難度可想而知有多大。
但這些東西只有做到了真正意義上的頂尖，才符合製造頂尖光刻機的要求。
其他國家根本就沒有能力去生產這些頂級的東西。
而然即便是這樣，目前世界上頂級光源在精度上也沒法超過兩納米。
因為光源的波長限制了。
目前米國提供給AMSL公司的光源是極紫外光，也是最先進的『EUV光刻機』上使用的光源。
這種光源的波長能控制到十納米，已經是極限了。
不過利用平滑衍射效應、光強調節等複雜的曝光控制系統，它能對低於十納米的曝光區域進行曝光雕刻處理。
這也是為什麼十納米的波長光源能生產出五納米晶片的原因。
但皮米級的晶片，光源的波長恐怕得控制在一納米以下。
一納米的光波長度啊，聽起來就讓人感覺匪夷所思不可思議。
要知道一個光子能量的多少與波長和頻率相關，波長越短，頻率就越快，能量越高。
頻率越快，能量越高，對光源的控制和收集也就越難。
就目前的極紫外光，光源工作時，需要以5萬次/秒的頻率，用功率20千瓦的雷射來擊打真空中20微米大小的錫滴，使液態錫汽化為等離子體，從而產生波長短的極紫外光。
而產生還只是第一步，產生之後，這些波長極端的光源會在真空中亂跑，還需要再將這些極短波長的極紫外光進行收集集中，變成可用於雕刻的光刀。
說實話，光是這些，這已經可以說是突破了人類腦洞的技術了。
紫光是所有光波裡面波長最短的光波，越是靠近紫光，波長越短。
而極紫外光在上面進一步縮短了波長。
世界上能做到提供十納米級極紫外光的國家，目前還只有一個，那就是米國。
從研發出十納米級的極紫外光到現在，已經過去了不少年了，但沒有任何一個科學家能想出進一步將極紫外光波長再縮短的想法。
對，就是想法都沒有，而不是有了想法無法實現。
所以全世界的科學家壓根就沒法想像一納米級波長的光源到底是怎麼製造並控制的。
.......
對於直播間內觀眾的提問，韓元只是笑了笑，沒有否認也沒有確認，而是將目光投向桌面上鋪開的光刻機圖紙，接著道：
「這一次我製備的光刻機，其所有的結構圖紙都在這裡了。」
「其主體總共分成雷射發生器、能量控制器、光速控制器、光鏡器、掩膜台、曝光台、測量器、減震裝置總計八大部分。」
「這八大部分是構成光刻機的主體結構。」
「當然，除此之外還有電晶體計算機、外部操控調節裝置等等。」
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