第435章 博浪那令人震撼的實力！（1/2）
儘管博浪在國內的宣傳比較簡單，只是一些簡報和官網信息更新，但好事者發覺後依舊引發了熱議。
無數臥槽刷屏網絡空間。
哪怕網友們已經越來越習慣博浪的大手筆，哪怕對博浪最近的動靜已經有所準備，網友們仍然被驚到了。
因為從去年星海1橫空出世，在晶片上表現十分出色以來，國內各種自媒體沒少營銷晶圓廠、光刻機等等。
裡面間或有一些海外來客或者灣灣來客帶節奏。
所以，國內網友忽然對這一個遙遠的工業領域非常關注，並各個專業了。
有關話題下面，動不動甩出DUV、EUV這種英文縮寫，要麼就甩中文『深紫外極紫外』。
再有就是甩出ASML、台積電，nm、Arf、浸入式、乾式。
也會甩一點相對更裝逼的東西，如工藝製程的排序標準，提到從11年開始興起的新型電晶體結構FinFET(鰭式場效應電晶體)以來，工藝製程的nm數值開始籠統的以上代工藝7得出。
提到現在吵得熱熱鬧鬧的20nm不過是28nm乘以7得來，而電晶體的最小間距並未縮小那麼多。
事實上從FinFET技術興起之後，各類工藝製程標準逐漸以商業營銷導向為基礎再加上單位面積電晶體數來定義。
最典型的例子就是英特爾的14nm+++從單位面積電晶體數、基礎尺寸等角度來看，跟台積電、三星的7nm差距非常微小。
因為FinFET這種電晶體結構屬於3D化，最小間距的減少開始變得很緩慢，而3D化後電晶體數量仍然在激增，廠商如果單純沿用原有的摩爾定律縮小一半為工藝升級則顯現不出技術進步，於是以一種假設的二維尺寸縮小一半來定義，然後命名規則逐漸廠商化。
所以所謂摩爾定律會死一說，比較難。
哪怕是後來宣傳的3nm、2nm工藝，仍然只是7等於5≈3nm，7等於1≈2nm來命名。
實際上台積電在7nm時期最小金屬間距是40nm，5nm時期大概是36nm，3nm預計是30~32nm這樣子，距離1nm的物理極限還有不小的空間。
反正廠商營銷需要，與實際的科研極限是存在一些差距的。
綜上。
在這樣的背景下，星空半導體的官宣信息更新讓國內網絡也跟著熱鬧了起來，各種談論都有。
「博浪真是不動則已啊，動起來都是大事情，直接就上全國產設備生產線了，800億那麼多，好哈人。」
「關鍵是這個星空半導體不缺用戶啊，以他們這個產能，一年才2億片晶片，供應星海系列都不夠！」
「是啊是啊，現在星海有手機、平板，不出意外的話今年一定會出電腦，再加上那個星河晶片，產能起碼要再擴大三四倍才夠自用，好牛。」
「不過只是45nm，是不是有點落後了……不對，難怪神龍M1是40nm工藝，跟這裡等著呢！」
「據說海外已經吵翻天了，有海外網友認為星空半導體這是在挑釁那個什麼什麼協定，阿美莉卡肯定會加大管束的，光刻機可是最尖端的禁運設備。」
比起國內無推波助瀾的熱議，海外網絡確實吵翻天了。
因為那邊主要地區阿美莉卡等都是晚上。
而且range、xiaochengshu、推特等平台帶節奏的自媒體太多了，把博浪想要挑釁的味道渲染到了一個頂峰。
好像下一秒，被管束限制的博浪就會立即突破封鎖，吊打矽谷，再創世界。
博浪在海外網絡的核心圖謀可不僅僅只是商業目的，還有別的目的，以製造各種輿論衝突最終達到一定程度的洗腦為主。
所以，自然不考慮過猶不及一點。
那邊的討論更瘋狂。
畢竟有海量的海外網友，各種各樣的出發點，還包括灣灣那幫帶節奏的在不斷從對立面談論，形態愈來愈激烈。
…………
30號，周二。
上午，身為星空半導體代理CEO的趙智依照各方面安排進行了一些有目的的公開事務。
配合了那台可支撐45nm工藝製程的國產光刻機正式進駐星空半導體一期工廠來宣傳。
無數被通知和知情媒體齊聚現場。
閃光燈連成一片片。
更是有一些媒體有意的開啟了現場網絡直播。
「觀眾朋友們大家好，現在我們正在江夏星空半導體總部，一同見證星空半導體全國產設備生產線最後一台核心設備入駐廠房。」
「它就是由我國自主生產，具有自主智慧財產權的SSSArF
900/45DUV
型IC前道製造步進掃描投影光刻機。」
「根據裝備說明，目前該型光刻機可製備200mm或300mm晶圓，即適配8寸或12寸晶圓生產線，可完成45nm光刻工藝製程成片製造，至多可經多次曝光完成14nm光刻工藝製程成片製造。」
「除了該型IC前道製造光刻機外，目前星空半導體一期工廠已經進駐的其它大型製造設備，如刻蝕機、後道封裝光刻機、清洗機等全都是國產設備。」
「……」
基本是新聞介紹口徑。
重點突出，非重點春秋筆法帶過，比如隻字未提這條生產線被定位成了試驗線，更沒提光刻機是實驗機，與商用機是兩回事。
從進入這間廠房之後的很長一段時間裡，這台光刻機都無法帶來穩定的產出，反而需要耗費海量的資源、資金去調試以優化更新疊代。
去解決諸如每小時晶圓生產數、穩定性、精準度、乃至能耗等方面的問題。
以適配大規模生產所需。
畢竟任何工業設備的商用都涉及到了連續穩定運行時長等等基礎參數，而實驗室產品不一定考慮了那麼多基礎參數，所以……
總之，能在現場進行線上直播的媒體，都是有任務需求的。
而且主用範圍是海外市場，講究更多。
不會出什麼么蛾子。
在熱鬧之後，趙智和田文凱兩人也主動接受了現場媒體的現場訪談。
記者A：「趙總，昨天有官方消息稱貴司與江夏地方達成了投資協議，江夏地方擬定投資800億，用於擴大貴司發展規模，具體有哪些方面跟大家介紹一下。」
趙智邊聽邊作點頭狀，然後回答道：「事實上，因為我們是行業新兵的緣故，所以一二期工程產能規劃不高，這還是因為有華虹華力微的共同參與建設。」
「如今一期工程即將完工收尾試運營，我們已初步積累了經驗，考慮到晶圓生產市場的巨大需求，包括我司所屬博浪集團的自身需求，我們已經初步規劃了三四期工程，初步規劃月產能至少達10萬片。」
記者B：「田總，貴司官方消息稱目前在建產線為全國產設備，適應製造工藝為45nm級別，似乎難以滿足市場最先進需求，可否為我們解釋一下。」
田文凱不慌忙的回道：「事實上我們的生產線設備中大多具備可升級條件，甚至部分設備本就適應更先進位程，而關鍵設備光刻機亦具備可升級條件，目前我們已有初步升級方案，預計將在明年正式投產之前完成產線升級，支撐28~20nm工藝，這將節約大量的時間成本。」
記者C：「趙總可否詳細說說三四期工程規劃，有消息稱目前全球前沿先進工藝已經進入了EUV光刻。」
趙智：「事實上我們的四期工程就是適應EUV極紫外光刻製備工藝的，而且我們在EUV光刻生產流程製造設備包括EUV光刻機等以及使用材料上都有研發投入；
也包括一些戰略投資；
其中我們正在極力促成七星電子與北方微電子的重組；
也包括我們戰略投資了目前國內唯一一家沒有外資背景的鏡片工廠明月鏡片，預計總投資額以貨幣價值算將多達300億人民幣，一期投資價值也已達20億；
還包括戰略投資上微電這家總成光刻機的廠商……
凡此種種都是為了更好的讓三四期工程生產線設備進一步實現全國產、更先進。」
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