第301章 298.這不是必輸的局嗎？（1/2）
張如京說，「下一代的晶片生產工藝我們已經在著手研發了，只不過這個肯定是需要一個時間過程的，估計沒有那麼快。」
「我們現在使用的光刻機，是全球最先進的193納米波長光刻機，跟台積電的是一樣的。」
說到這裡，張如京思考了一下，「這就相當於大家都是雕刻人，使用的工具都是差不多的，最後做出來的產品質量好壞，精密度……靠的就是手藝水平的高低了。
想要生產下一代45納米的晶片，就目前的設備來看，我們能做的，就是提高手藝，至少在明年我們能夠突破60納米吧。」
張如京抿了一口酒，臉色微紅。
「現在中芯國際有幾種方式可以提升晶片的精細度，一種就是通過多重曝光的方式，來獲得精細度更高的晶片。」
「欸？」曹陽猛然抬起頭來，感覺有些震驚。
因為這種技術他在前世都沒怎麼聽說過。
還有這種技術的嗎？
「這種方式的確可以製造出45納米，甚至更低納米級別的晶片，不過缺點很明顯，」張如京說，「多重曝光，對於技術的要求是呈幾何指數增長的。
你就相當於在做微雕刻的時候，要在同一個地方連續下刀，而且每一刀都得無比精準。
這是非常困難的事情，同時因為多重曝光，良品率肯定會急劇下降，導致生產成本增大，我估計我們即使能超過台積電，生產出30，20納米的晶片，可這樣的一塊晶片想要出售給博米的話，也許價格上面就要高達1000多，甚至2000塊錢，估計你們也很難承受。
難以量產，這是目前多重曝光遇到的最大難題，不過我們也在摸索之中，也許過幾年我們的多重曝光技術就能取得突破，到時候進行量產也說不定。」
唔……
曹陽托著下巴，陷入了思考之中。
其實他在計算一個問題——
現在中芯國際給博米這邊的晶片是90nm，一片380塊錢，提升到1000塊錢一片45nm，甚至30nm的話，我們好像還是有得賺的，把價格再進行一些提升，通過降維打擊，靠晶片碾壓蘋果建立優勢以後再反向推動晶片製造呢？
這條路是否行得通？
「還有一種，」張如京今天有些興奮，笑著繼續說到，「浸潤式技術，在光刻機投影物鏡最後一個透鏡的下表面與矽片上的光刻膠之間填充高折射率的液體。
台積電現在使用的就是這種光刻方式。
想起來也很有意思，4年前，台積電林本間提出來浸潤技術的時候，業內還對此嗤之以鼻，認為這是一種不可能實現的技術方式。
不過到兩年前，他們的浸潤式技術就研究成功了，我們現在因為沒有具體的製作流程和技術，只能靠自己摸索。」
曹陽對此還是有些印象的。
台積電之所以跟其他大廠拉開差距，最重要的原因就是在於林本間發明的浸潤式光刻技術。
在這項技術出現以前，世界在微影領域的老大可是東島的尼康，當時林本間提出來浸入式技術的可行性的時候，相當於打了尼康和IBM一眾世界級大佬們的臉。
因為他們還在研究如何使用X光來進行光刻，因為X光比深紫外線的波長更短，可是林本間告訴他們，其實沒有那麼複雜，在現在的深紫光DUV光刻機的基礎上，加一點水浸潤一下，通過折射角度的變化就能製造出精細度更高的晶片。
這無疑告訴他們，你們走的路是錯的。
IBM和尼康如何能忍受這一點？
都已經投入了幾十上百億美元的研發資金了，突然被人質疑。
任何一項顛覆式新技術的出現，總會受到來自於傳統勢力巨大的阻力。林本堅的浸潤式光刻，幾乎被尼康、佳能、IBM等所有巨頭封殺，尼康甚至向台積電施壓，要求雪藏林本堅。
巨頭的隕落，總是如出一轍。當年柯達最早生產出來了數位照相機，但是柯達卻因為恐懼數位相機威脅到自己的膠片業務，做出決定——一定要藏好，不能讓別人知道。
尼康的智商，在巨大的現有經濟利益前消耗殆盡。
雖然現在尼康仍然占據著龍頭老大的位置，但是曹陽知道，在不久後的將來，等到台積電的45納米出現，阿斯麥光刻機在市場占有率上就會將尼康拉下馬，讓一個巨頭隕落。
現在其實已經隱隱然有這種苗頭了。
目前中芯國際雖然知道林本間採用了浸潤式技術幫助台積電在60納米以下取得了重大的突破，不過具體的做法和工藝技術，中芯國際是不知道的。
所以現在也是在摸著石頭過河的階段。
「浸潤式技術從原理上來說並不複雜，不過還是那個問題，需要時間。」張如京有些愁悶地喝了一口酒，難受地說到，「我們正在嘗試使用浸潤式技術，明年提升到60納米水準應該不成問題。」
使用浸潤式技術進行晶片製作，就不需要進行多重曝光，良品率是有保障的，生產成本應該跟現在的90納米晶片差不多。
所以即使明年博米沒有45納米的晶片，也能從中芯國際這邊購買到60納米。
不過曹陽肯定不會就此滿足，博米的晶片設計還得繼續深挖，要一直保持對蘋果的領先，那麼之後肯定要先引入台積電的45納米晶片。
除非中芯國際能夠彎道超車。
如果想要實現技術上的突破，超過台積電的話，還得從光刻機本身進行突破。但是我們國家目前為止，並沒有能夠獨立生產光刻機的企業，準確來說是沒有獨立生產193納米，甚至更短波段的光刻機水平。
現在是2006年，在光刻機領域當中，東島的尼康才是老大，而未來的光刻機王者阿斯麥Amsl還沒有崛起，第一台EUV光刻機要到2012年才能生產出來。
從時間上來說，或許我們還有機會。
至少曹陽是這麼想的。
……
「浸潤法是通過改變光的折射來達到更短光波的目的對吧？」曹陽問到。
「對。」張如京笑了笑，「這是個初中物理題，折射光的波長，等於入射光波長除以折射率，折射率越大，那麼最後的折射波長就越短。
現在浸潤式光刻技術就是通過提升入射介質的折射率和折射角度來分離短波長，從而能夠提升晶片的精細度。」
想到這裡，曹陽微微一笑，「那為什麼不直接採用更短波長的光呢？」
張如京搖了搖頭，「不行的，因為之前IBM已經研究過了，X光波對於現在深紫外光來說波長更短，但是在這種情況下，水介質對於X光的折射效果很差，當光達到一定的波長之下，水對於它們來說就不是完全透明的了，就會產生遮擋和噪影，這是沒有辦法解決的事情。」
「不是，我的意思是，不採用浸潤光刻技術，而是乾式光刻，但是將光波長縮短到兩位數。」曹陽說。
「哈？！」
不只是張如京，在座的各位大佬們都是一副見了鬼的表情。
倪光南、劉強這些本身就是做晶片出身的，華為任總雖然沒有從事這方面的技術研發，不過也是略知一二，而且晶片對於整個高新領域來說，就相當於心臟，是不可或缺的東西，怎麼著也會跟晶片打交道，沒有做過也大概有所了解。
這……
要知道現在能夠生產出193納米的深紫外光就已經是極限了，深紫外光最多能提升到157nm。
如果採用浸潤法，用純淨水作浸沒液，其折射率為1.44，因此等效波長便從193nm降到了134nm（193nm/1.14=134nm），解析度也因此提高了，工藝節點可以向45-22nm邁進。
現在曹陽居然說使用兩位數，也就是低於100納米的波長光源，這簡直就是天方夜譚。
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