第45章 興許真的能成（1/2）

滬州微電子一點兒都不缺業務，哪怕造不出頂尖的光刻機，就算是中低端的光刻機也是生產一台就能賣出一台，根本就不愁。

就拿SSA600系列前道製造光刻機來說，滬州微電子一年的產能也就四五十台而已。

原本晶圓廠要購買光刻機，尤其是90nm精度的SSA600系列，那訂單是需要很長時間的預約排隊的，但這次，滬州微電子很積極，蘇父下完訂單之後次日就有工程師聯繫了。

這就是實力的作用。

滬州微電子肯定也知道光芯科技現在是「輔腦」主晶片的代工廠，他們甚至了解到翟豎現在就在錫州，真的就是圈子之內沒有秘密。

光刻機的購買當然有專門的人去談，而翟豎的任務就是跟一同前來的一種工程師們了解情況。

滬州微電子似乎是知道翟豎有這個打算，光是工程師就來了幾十個，甚至還有參與研發新型號SSA800系列樣機的頂尖工程師。

一間不小的會議室都被擠得滿滿當當的，這些人還都帶著自己的筆記本，甚至各種資料都準備的很齊全。

……

「我們現在最大的問題就是穩定性，SSA800系列已經製造了三台樣機，但一言難盡，三台樣機各不相同。」

當翟豎問道SSA800系列現在遇到的困難的時候，原以為這些工程師們不會回答，畢竟設計未發布產品的機密。

但今天，他們好像沒有把翟豎當外人似的，一股腦的把所有的問題全都說出來了：

「看似完全一樣的光刻機，在試產中的表現可謂是千差萬別，好的那台，實驗室生產良率能夠達到80%，但另外兩台，良率最高就只能達到二三十，我們甚至請了台積電的頂尖專家來幫助我們打造實驗室產線，但效果也沒有明顯提升。」

現代超大規模集成電路晶片的製造，那無疑是一個非常複雜非常精密極為高端的工作。

僅就光刻這個過程而言，就有著非常複雜且繁瑣的步驟。

簡單說來，晶片製造的過程就是將IC設計廠商發來的一層一層又一層的IC設計「光罩圖」中的電路圖轉移到晶圓上。

形象的說，整個過程其實和老式的洗照片的的工藝非常的相似，當然，精密度完全不是一個級別的，相差了有十萬八千里吧。

晶片製造的過程，最複雜也莫過於光刻，也就是把圖像從掩膜版轉移到晶圓上的這一過程。

這一過程十分複雜，總結起來，大都包含如下十個步驟，也就是光刻的十步法：

清洗並甩干晶圓表面、塗光刻膠、軟烘焙加熱光刻膠部分蒸發、精確對準掩膜版與晶圓並曝光光刻膠、祛除非聚合的光刻膠、硬烘焙光刻膠溶劑繼續蒸發、檢查表面的對準和缺陷、刻蝕、祛除光刻膠然後進行最終檢查。

這其中每一個步驟都必須精密細緻，任何一點的瑕疵都可能導致工藝的良率降低，甚至是直接失敗。

翟豎也聽出來了，滬州微電子的工程師們還真是怨念滿滿，這麼多的流程，現在出了問題，出在哪個環節都不知道。

就算品質較好的那台試驗品，實驗室也只有百分之八十的良品率，那真要是生產環境呢？

肯定會更低吧，實驗室可以不計代價的打造試驗產線，但工廠要評估建設成本，肯定不能那麼做。

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