第六百五十七章 時間才是最大的敵人（2/2）

待到林苯堅小心地坐下後，張中謀笑道：「苯堅啊，你上次申請的濕法光刻技術項目，我研究後很有興趣，你能對我再講講你的看法嗎？」

「啊……」

林苯堅聞言又驚又喜，驚的是德高望重的張中謀親自研究了他的項目方案，喜的是自己終於得到了發揮的機會。

他整理了一下思路，緩緩道：「傳統的乾式光刻法，自1959年發明『平面積成電路』以來，被持續使用了四十年，然而受限於基本光學衍射，在90年代後期，用該方法製造特徵尺寸小於65納米的晶片面臨無法逾越的瓶頸。」

林苯堅堅定地道：「我預見昂貴的乾式光刻技術將進入死角，所以建議使用濕式光刻，該方法是一種新的光刻工序，透過液體介質置換透鏡和晶圓表面之間的氣隙以提高光學解析精度。」

「這個我知道，你說的濕式光刻，是浸潤式光刻，這個概念在80年代曾有人提出過。但這個概念很原始，距離可實現的方法還很遠。」張中謀點頭道。

「對，為了優化浸潤式光刻系統，我在理論上重新定義並導出了關鍵性能指標和縮放公式，為極高解析度的三維浸潤式光刻光學系統，規範了必須遵行的縮放定律。」

林苯堅道：「我還在實驗室的研究發現，想要完善浸潤式光刻，就是要克服液體中微氣泡的形成。還必須要開拓在熱力學極限下，經由水而衍射的光刻工序。」

張中謀赫然動容道：「如果你的這個設想全部解決，那麼在科學和工程上，就證實了濕式光刻方法可用於最先進的IC製程，可以將IC技術節點從65nm持續降低，打破65nm的技術壁障。」

「對，這樣摩爾定律又可以生效了。至少可以再持續延伸了五代以上。」林苯堅信心滿滿地道。

「哈哈，好哇！」

張中謀大笑，「就是要你的這種底氣，你來看看這份資料。」

他指著中芯突破90nm技術的資料給林苯堅看，「如果技術停滯，後來者就很容易追上來。為了保持我們的技術領先，我決定馬上研發濕法光刻技術。由你牽頭負責成立技術團隊，爭取一年內出成果。咱們積電不發威，什麼內地小公司都敢追上來了。」

林苯堅臨危受命卻大喜，他立正道：「保證完成任務。」

「不過……」林苯堅又道：「光刻機霸主——東洋佳能和尼康十分抵制我的這個方案，我們找哪家公司一起研發濕法光刻機呢？」

「那裡……」

張中謀又指了指手中的資料，林苯堅低頭看去，「荷蘭小廠阿斯麥？」

「對，相信他們願意嘗試。這是他們打敗東洋霸主的機會。」

張中謀雖然不熟悉這家小廠，但他懂人心。

他拍拍林苯堅的肩膀，「儘快出發，和這家公司交好，必要的時候可以提供技術支持或資金入股，爭取這家公司更多的話語權。」

張中謀安排好了林苯堅，目光又落到了案頭的資料上面。只見資料最上方，葉風的清秀帥氣的照片，帶著淡淡的笑容。那面容年輕得過份。

嘆了一口氣道：「唉，我和張如京都老了，就算我現在能帶領積電領先一步，十年二十年後，我還能帶得動積電這艘大船嗎？時間，才是我最大的敵人啊。」

他此時還不知道，林苯堅的濕法光刻技術大獲成功，不僅革新了集成電路的製程，還使先進半導體晶片的特徵尺寸，能持續縮減為5-7納米量級，為建造最強大的計算和通信系統做出了關鍵貢獻，讓積電的製程技術一直領先了15年。

而且，不但積電完成了技術突破，荷蘭阿斯麥也迅速崛起，擊垮東洋霸主成為行業巨頭，和積電結下了深厚的戰友情。

如果不是葉風的出現，15年後的阿斯麥將在美國的重壓下，卡著中芯的脖子，不再給中芯提供7納米級的先進光刻機，差點將中芯逼入絕境。