第664章 愛玩的女孩孕氣都不會太差（1/2）

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看著田旭東同學在足球場上縱橫馳騁大殺四方，捧走了大力神杯成為了新一代球王，葉華功德圓滿回到了台積電設置在氹仔島的合作實驗室搞研發。

前兩年剛完成了浸入式光刻技術，現在葉華又要帶領台積的供應商ASML光刻機研發部門進入EUV（極深紫外）時代。

ASML為葉華旗下的高通、華技、台積電、東方電子等半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML採購TWINSCAN機型，比如葉華旗下的高通、華技、海力士（Hynix）、台積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等，同時也在各地成立了合作實驗室。

ASML的產品線分為PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現已停產；AT系列屬於老型號，多數已經停產。市場上的主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF雷射光源，XT系列是成熟的機型，分為乾式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現在主推的高端機型，全部為沉浸式。目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXT 1950i，屬於沉浸式光刻機，用來生產關鍵尺度低於38納米的集成電路。

ASML正在加緊研製基於極深紫外（EUV）光源的新型光刻機，型號定為NXE系列。如果量產成功，將成為劃時代的產品，有望將關鍵尺寸縮小至10nm以下，並且可以顯著提高集成電路質量。

眾所周知，光刻是集成電路晶片製造的核心工藝。光刻機的成本占到了整個晶片生產的三分之一以上。而在光刻機的市場上，白婷在1977年就幫葉華註冊的ASML公司，而如今占到了全球光刻機80%以上的市場。

1960年代集成電路技術誕生後，最早的光刻工藝還不算什麼尖端科技。葉華早期收購的仙童和IBM這些第一代晶片公司都是自己設計光刻工具，只有GCA，K&S和Kasper等少數公司開發一些獨立的光刻設備。進入1970年代，光刻機成為不少米國公司競爭的焦點。先是Kasper推出接觸式光刻設備，但是很快，接觸式被接近式機台所淘汰，因為掩模和光刻膠的接觸會很容易帶來污染。接下來Perkin Elmer（P&E）推出投影式光刻系統，迅速占領市場。

1978年，仙童的光刻部門剝離出去，併入了ASML公司，很快推出步進式光刻機，光刻機的解析度達到了1微米。但是由於性能問題，暫時沒能撼動Perkin Elmer投影式光刻機的市場領先度，直到進入80年代後，ASML公司又推出更成熟的步進式光刻機NSR-1010G，投影式光刻機的市場才開始萎縮。整個80年代上半期，尼康，GCA也開始進入光刻機全球市場。

也是在這個時候，ASML總公司搬遷到了荷蘭埃因霍溫，推出TWINSCAN系統和割命性的雙段（dual-stage）技術，在對一塊晶圓曝光的同時測量對準另外一塊晶圓，從而大大提升了系統的生產效率和精確率。並投入全自動化生產和飛利浦展開競爭，飛利浦想像不到5年，葉華的ASML公司會發展這麼迅猛，把他們擠得只有1%的市場份額。1983年4月1日，ASML公司蛇吞象般收購了電子巨人荷蘭飛利浦公司。

在仙童公司還未改名成外星人公司簽，光刻部門最初只有31名員工。收購了飛利浦的ASML公司第一年，就推出了浸入式光刻技術。當然，這套系統並不是憑空而來，仙童關於光刻系統的研發工作早在1960年代就開始了，事實上仙童最初的注資中有180萬美元就是用尚未研發完成的浸入式光刻技術的。

去年，公司發展到1000多員工，搬入位於Veldhoven新建的機器人廠房，這個地方距離飛利浦研發實驗室只有幾公里遠，公司推出改進了對準系統的PAS2500步進型，奠定了隨後多項技術創新的基礎。也在那一年，ASML同外星人和山葉的攝像頭部門建立了穩定的合作關係。

今年ASML的國際化拓展越發成功。他們跟隨飛利浦在寶島的合資流片工廠台積電開拓了亞洲業務，在米國的員工數增加到840人，建立了十五個辦公室。為高通、台積電等公司送來急需的上萬台光刻機訂單。

從此ASML完全自立，他們的客戶數遍布全球，訂單排到了三年後，成為主導國際光刻機市場的一哥。葉華旗下多個高科技公司崛起，把其他半導體公司逼迫得無路可退，原先主導光刻機市場的美國光刻機廠商GCA，Ultratech和P&E光刻部先後退出或者縮小規模。日本的尼康和佳能也不能倖免，已經三個月沒有接到訂單，尼康承受不了巨額投資卻不見回報決定退出，佳能也宣布龐大的成本削減計劃，工人們開始放長假。為了挽救公司，尼康和佳能的管理層找到了台積電的董事會成員林秋霞，通過她說服其他董事決策為他們公司再提供一筆資金和技術。

葉華的團隊沒有辜負林秋霞的信任，上個月他們各出資6千萬美元收購尼康30%的股份和佳能40%股份，並轉讓了PAS5500的技術，這一具有業界領先的生產效率和精度的光刻機。PAS5500也為尼康佳能帶來幾家關鍵的客戶，包括台積電，高通和中芯國際，這些客戶是他們後來實現贏利的關鍵。現在ASML他們擴建了位於Veldhoven的DeRun廠房，這裡將為成為公司新總部所在。葉華通過台積電的實驗室為新總部輸送最新的光刻技術。

TWINSCAN AT:1150i量產後沒多久，首個193nm的浸入式系統TWINSCAN XT:1900i發布。這些創新的系統讓客戶可以生產更小尺寸的晶片，其特點是可以讓光經過透鏡組和晶圓之間的一層水實現投影。浸入式光刻技術全部從葉華的特斯拉資料庫一次輸出。在那之前，全球的半導體工業都為超越193nm光刻絞盡腦汁，但是先後失敗。只有葉華提出的這個工程師相對簡單的辦法最後成功。從那以後，浸入式光刻一直做到如今的7nm。正是憑藉浸入式光刻的突破，讓ASML一躍成為全球光刻機市場的大霸王。

接下來光刻機的競爭進入EUV（極深紫外）時代。目前全球最先進的EUV光刻工藝使用的是13nm光源，能夠滿足7nm線寬製程工藝的要求。全球能夠達到這種水平的光刻機製造商暫時只有一家——葉華獨家持有的ASML。

為了市場壟斷，葉華手下肯定不止有ASML一個公司，後面還跟著N多個馬甲，例如馬甲一——矽谷SVG集團擁有關鍵的157nm光學技術，也因此得以長存米國市場；例如馬甲二——領先的半導體設計和製造優化解決方案提供商BRION，開啟整體（Holistic）光刻戰略；例如首次發售支持實時測試糾正的YieldStar（250D）系統，在整體光刻上更進一步。

6月初ASML首次發售概念性的EUV光刻系統NXW:3100，客戶是華技的的2012實驗室，從而開啟光刻系統的新時代。EUV光刻採用更短波長的光來製造更小特徵尺寸，更快也更強大的晶片。

同時葉青文在加州聖地亞哥成立光刻光源廠Cymer，和ASML合作，加快EUV系統研發，7月份發售第二代EUV系統NXE:3300，第一批面向製造的EUV系統開始批量發售給客戶。在這個時候，進一步擴展整體光刻產品線，併購寶島的另外一個小馬甲HMI公司，一家領先的電子束計量公司，並在一個後成功推出整合兩家公司技術的ePfm5系統。在荷蘭電子束光刻公司Mapper破產後，ASML收購了其IP資產，還延攬了其研發人員。ASML繼續改進浸入式光刻技術，先後推出NXT1970Ci和NXT1980Di，這兩款設備被葉華的半導體工業廣泛部署。

縱觀葉華輸出的高科技和ASML的發展故事，很多關門弟子可以看到，堅持分散投資，對新技術趨勢的準確判斷與把握，持續不斷的研發投入，充足的資本保障是ASML能在短短几年時間裡從小到大，一躍成為全球光刻機行業龍頭的關鍵要素。和ASML同時起步，甚至更早的IBM的光刻機卻沒有發展起來。和葉華的事業群對比，所有做產業研究都開始驚恐了。

葉華無視歐美蘇的強勢，不趁著市場急缺的時候多開枝散葉廣撒網，那不就是耍性格的逗逼？只要能盈利的地方，葉華都見縫插針。

.......

葉華走出實驗室，來到了賀潘妮打理的美高梅酒店，一個30多歲穿著黑色小西裝戴著墨鏡的捲髮美女衝著葉華打招呼道：「葉先生，哦，是葉醫神您好！」

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