第155章 士氣爆棚（1/2）

黑洞光刻機公司。

蒲偉才需要衛明幫忙加工的零件，主要跟光學鏡頭相關。

尤其是塗在光學鏡頭表面的那層反光膜材料，要求純度達到8個九以上。

但國內相關的材料公司，只能做到4個九的純度，還差四個量級。

為提高反光效率，衛明只能利用小黑吸收雜質，提純材料，使其純度無限接近100%。

但這樣慢工出細活，一個一個的消除雜質分子，一天也提純不了多少。

後面科學家想到了一個巧妙辦法，那就是把反光膜材料，溶於某種有機溶液中，大部分雜質則不能溶解，於是就把雜質析了出來，再加熱特殊有機溶液，析出純度更高的反光膜材料。

如此反覆操作幾次，反光膜材料的純度，能提高11個九以上，要比國外材料還高出三個量級——這便是暴龍EUV的能量利用率，為什麼能高出三倍還多的原因。

不過特殊有機溶液經過多次的使用之後，其本身純度會有所下降，進而影響反光膜材料的純度，必須對特殊有機溶液進行提純操作。

這就需要製作一種特殊的分子篩，孔徑極小，只允許有機溶液分子通過，其它分子一個都通過不了，純度甚至達到理論層面的100%。

故而要想解決掉反光膜純度問題，衛明得製作一批有機溶液分子篩，利用小黑鑽出一個個小孔。

由於分子篩小孔的直徑剛好在1納米左右，以前衛明需要精準操控，一天頂多打下100億個孔。

但現在視界的範圍剛好為1納米，只要關閉引力半徑，再閉著眼的瘋狂打孔即可，短短十分鐘便打下了1萬億個孔。

效率提升了萬倍不止。

僅僅兩個小時，他就製造出了足夠使用的分子篩。

高精尖領域做的很多事情其實就是如此。

需要數百種接近100%純度的化學材料。

需要數萬個誤差接近0的零件。

需要表面無限貼近某個數學公式的鏡片曲率變化規律。

甚至冷卻光刻機所用的水，也必須是沒有任何雜質的100%純水，讓光刻機的冷卻性能，保持線性穩定，不受雜質影響。

以及某些子系統的工作環境，最好是沒有一個空氣分子存在的絕對真空……正好，能夠吞噬一切的小黑，可以創造出最接近真空的環境。

光源系統要用到的金屬錫滴，也得保證它的純度是100%，這樣就可以減少雜光的產生。

利用真空容器離心法，衛明幫忙弄到了100公斤的高純度錫……這足夠滿足二十台光刻機的需求。

忙活了一整天。

解決掉所有積壓問題後。

時間已是晚上8點多。

「辛苦你了衛總，這一批問題解決，你到年底不來都沒問題，至少能管半年。」

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