第四百一十三章 光刻機（2/2）

光刻機有多牛？

洪玉曾如一個「花痴」一樣向劉琅介紹當時最先進光刻機的性能！

比如光刻機的光線能量、破壞性極高，製程的所有零件、材料，樣樣挑戰人類工藝的極限，甚至因為空氣分子的干擾都會影響光線，所以生產過程得在真空環境，而且，溫濕度和壓力變化還會影響對焦，所以在機器內部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫傳感器，更重要的是，需要精確度極高的鏡頭和光源。

有頂級的鏡頭和光源，沒極致的機械精度，也是白搭。光刻機里有兩個同步運動的工件台，一個載底片，一個載膠片，兩者需始終同步，誤差在2納米以下，兩個工作檯由靜到動，加速度跟飛彈發射差不多，如此而且，機械的動作得精確到誤差僅以兆分之一秒

劉琅還記得洪玉當時舉了個例子，這種同步性就相當於兩架大飛機從起飛到降落，始終齊頭並進。一架飛機上伸出一把刀，在另一架飛機的米粒上刻字，還不能刻壞了。

光刻機牛不牛？當然牛，即便是劉琅這個門外漢也是覺得這種儀器人類怎麼能給它造出來呢？

可人類就是給造出來來了，而且未來還會不斷發展，直至量子計算機的誕生………。

不過洪玉說的是三十年後的光刻機，現在大家面前的光刻機自然不能與自己的「孫子輩」相提並論了，這台光刻機的製程只有四微米，未來則是有十幾個納米，兩者相差幾百倍，要用機械來形容兩者的差距，如果現在的光刻機比作是國產手扶拖拉機的發動機，那麼未來的光刻機就是太空梭的發動機。

「這應該就是製成達到製程4微米級別的刻紋機吧，技術真是先進，比咱們國家強出很多！」

周明目不轉睛地看著感嘆道。

周明曾經參加過二十多年前的衛星研製，對國家的半導體發展非常了解。

光刻機就是在矽片上塗感光膠，用集成電路設計的電路膠片遮蓋在上面進行曝光，清除感光部分，露出矽片在上面進行加工最後成型，簡單來說，就是用光進行「雕刻」，因為電子元件都是以十幾個納米級別，世界上哪裡有如此細小的「刻刀」能把這些元件雕刻在晶圓上？

不過別看光刻機如此高端，但中國卻是最早研製這種儀器的國家之一。

在五十年代末期，光刻機就已經在美國被發明出來，並且隨之應用在了實踐之中，而六十年代初期，隨著大量國外半導體專家的回歸，國家也將半導體技術列為國家重點發展科目。

在那個時代，國家在半導體領域內可謂是人才濟濟，有名氣的黃坤、謝喜德、周明等科學家們都是從國外回來的專業人才，他們帶領著國家開始研究光刻技術，當時他們研製出了鍺合金三極體和磁膜儲存器。

到了六十年代初期，美國提出了氧化物半導體效應晶體，並且研製出了一千個元件的密集電路板，這是世界第一個二十英寸的集成電路。

而同一時期的中國沿用古老傳統的照相術顯微鏡進行縮小曝光，採用的是人工光刻工藝，就是坐標值加噴黑銅版紙加手術刀的方式，精度也能達到零點幾毫米，對於那個時代的集成電路來說也是足夠了。

而到了六十年代中期，中國終於製造出了第一批接觸式光刻機，這項技術已經處在世界一流行列了。

到了七十年，因為大規模集成電路產業的蓬勃發展，美國人的光刻技術終於迎來的大爆發，進入到八微米工藝時代，開發出了投影光刻機等關鍵工藝設備技術，並在七十年代中期年建立了世界第一條十二英寸的集成電路生產線，也就是眾人面前的這套四微米製程工藝。