第四百一十五章 找人（1/2）

「現代的光刻技術分成幾個步驟，首先是氣相成底膜，就是矽片在清洗、烘培後首先通過浸泡、噴霧或化學氣相沉積等工藝。

然後是旋轉塗膠，是形成底膜後，要在矽片表面均勻覆蓋光刻膠，此時矽片被放置在真空吸盤上，吸盤底部與轉動電機相連，當矽片靜止或旋轉的非常緩慢時，光刻膠被分滴在矽片上，隨後加速矽片旋轉到一定的轉速，光刻膠藉助離心作用伸展到整個矽片表面，並持續旋轉甩去多餘的光刻膠，在矽片上得到均勻的光刻膠膠膜覆蓋層，旋轉一直到溶劑揮發，光刻膠膜幾乎乾燥後停止。

然後是軟烘，是塗完光刻膠後，需對矽片進行軟烘，除去光刻膠中殘餘的溶劑，提高光刻膠的粘附性和均勻性。未經軟烘的光刻膠易發粘並受顆粒污染，粘附力會不足，還會因溶劑含量過高導致顯影時存在溶解差異，難以區分曝光和未曝光的光刻膠。

還有曝光，這個過程是在矽片表面和石英掩模對準並聚焦後，使用紫外光照射，未受掩模遮擋部分的光刻膠發生曝光反應，實現電路圖從掩模到矽片上的轉移。

顯影，是使用化學顯影液溶解由曝光造成的光刻膠可溶解區域，使可見圖形出現在矽片上，並區分需要刻蝕的區域和受光刻膠保護的區域。顯影完成後通過旋轉甩掉多餘顯影液，並用高純水清洗後甩干。

堅膜，顯影后的熱烘叫做堅膜烘培，溫度比軟烘更高，目的是蒸發掉剩餘的溶劑使光刻膠變硬，提高光刻膠對矽片表面的粘附性，這一步對光刻膠的穩固，對後續的刻蝕等過程非常關鍵。

堅模之後就是刻蝕了，這項工藝非常重要，是通過化學或物理的方法有選擇地從矽片表面除去不需要材料的過程，通過刻蝕能在矽片上構建預想的電子器件。

最後就是去膠，是刻蝕完成後，通過特定溶劑，洗去矽片表面殘餘的光刻膠，此時一個小小的晶片基本就完成了！」

呈賢把這台光刻機的工作原理講的非常清楚，讓周明都有耳目一新的感覺。

「果然厲害，我們的刻紋機就沒有這麼多的結構，怪不得人家那麼強大，在這些小小的細節方面我們就沒法比呀！」

作為科學家，周明教授只認真理，人家美國強就是強，你不承認就是自欺欺人，不像有的人，人家比你強還不承認，這樣的態度永遠不會進步。

「海軍小同志，你接觸這套生產線時間最長，那你有如何改進的方法嗎？」

周明看著王海軍問道。

王海軍一聽腦袋晃得跟撥浪鼓一樣。

「我有方法？我要有方法那就是神仙了！」

「周教授，我沒有任何方法，甚至我連光刻機里的構成都不知道呀！」

王海軍實話實說道。

「嗯，我也沒有方法，這種設備不是幾個人就能弄明白的，看來只能找人了，或許那幫傢伙能幫上忙！」

周明說道。

「誰？周教授你快說！」

劉琅趕忙問道，其他人也是眼前一亮。

「二十年前我們國家成立了光學設備研製小組，現在都是一幫老傢伙了！」

周明打了一個電話。

「老謝呀！我是周明呀！」

周明打通這個電話已經是幾天後了，不是他耽誤了時間，而是對方太忙，找了數次都不在，最後還是對方打了過來

「老周，我知道是你………老周，你不在華夏大學上課怎麼跑到了滬市去了？」

對方笑著問道。

劉琅就在旁邊，知道對方叫做謝喜德，現在是首都第三電晶體廠的總工程師，這家電晶體廠可是現在國內最大的一家廠子，年產一千多萬塊電晶體，國內大多數國產收音機裡面的電晶體都是這家廠子的產品，而這位謝喜德同周明教授一樣，也是當年五十年代初期從國外回來的半導體專家，兩人也是二十多年的老朋友了。

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