第四百五十六章：競爭與進步（2/2）

所以尼康也是連忙聯繫了華夏的神秀科技想要問問這次怎麼辦，畢竟現在雙方算是在同一個戰壕里了，如果讓他們早一步搞出光刻機的話，那麼大家全都涼涼，至少在光刻機這塊任人拿捏，更不用說除了光刻機以外的其他方面了。

除了尼康那邊不斷的催促以外，林本堅等人就下一代光刻機的發展也是給蘇炎傳來了很多壞消息，因為技術，材料等方面的問題，現在技術研究幾乎已經進入到了瓶頸！

而在阿斯麥那邊則是過上個一段時間就有些消息傳出來，不是在光源上有了進展就是在材料上有了突破。

其實對於阿斯麥放出的各種煙霧彈蘇炎並不是太擔心，畢竟現在關於下一代光刻機在光源問題上的方向分別是157nm f2雷射，電子束投射，離子投射以及euv和x光，因為euv屬於軟x光，所以和x光的研究算在一個領域。

現在全球研究euv的企業和機構幾乎超過200家，但研究157nm f2雷射的企業和機構超過300家...

而且絕大部分企業和機構都是多個方向一起研發，尤其是ibm，四個方向一起研發。

當時搞157nm f2雷射搞得最好的就是svg跟尼康，而當時搞euv搞的最好，也是投入最大的企業，正是英特爾。這也是為什麼最近英特爾跳出來高喊要靠euv打造下一代光刻機。

可以說現在英特爾等為首的就是第一梯隊，而第二梯隊就是以華夏的神秀科技和日本的尼康，佳能為首的聯盟，至於說其他的完全不足為懼。

神秀科技在華夏也是找上了包括國內知名理科院校以及像是長光所等機構充當盟友，增強力量。遠在日本的尼康和佳能也沒有閒著，先是找到了包括日本電氣股份，三菱，東芝等一眾企業隨後同樣是和日本本土的研究機構以及政府尋求支持。

而就在華夏和日本兩國動起來的時候，阿斯麥那邊也是在內部開始了關於現在研究進度的討論，在內部的討論中根據眾人的分析，目前想要攻克euv光刻機最大的難題，就是光源問題，只要解決了光源問題，其他的問題完全可以靠著科技底蘊硬懟下來。

經過一段時間的研究，它們也是發現在光源這塊確實很難，euv在穿透物體的時候散射吸收是個巨大的問題，這就需要光刻機需要非常強大的光源，再加上euv連空氣都能吸收，所以機器內部還得做成真空的，再加上內部各種精密的零部件這對於工藝來說同樣是一個巨大的考驗。

而且由於光刻精度是幾納米，euv對光的集中度要求極高，相當於拿個手電照到月球光斑不超過一枚硬幣。反射要求鏡子長30cm且鏡面的起伏不到0.3納米，這相當於是燕京到滬上做根鐵軌起伏不超過1毫米。

所以euv不僅是頂級科學的研究，也是頂級精密製造的學問。

一台euv光刻機重達180噸，其中超過了10萬個零件，需要四十個貨櫃運輸，安裝調試都要超過一年時間，可以說真的是沒有一定的技術儲備，設計圖紙給你你都造不出來。

其實euvllc聯盟早在1997年便已經成立，在97年到03年的六年間，euvllc的科學家發表了幾百篇論文，驗證了euv光刻機的可行性，然後euvllc聯盟解散。

雖然說是解散但是實際上不過是移交到了阿斯麥手裡，阿斯麥幾乎是全部繼承了euvllc聯盟關於euv光刻機方面的知識，而現在英特爾重新號召不過是為了加大投入想要搶先一步研製出來，畢竟以前沒有對手完全可以慢慢來，但是現在有了對手出現，在慢慢發展顯然不可行了，就像當初美蘇冷戰的軍事競賽一樣，科技簡直是迅猛發展航天就是在當時的背景下迅速進步的。

而就在eucllc討論如何解決光源問題得到時候，華夏突然宣布，將kbff晶體列為戰略資源，不再對外出口。

asml：......

英特爾：......

APC:......