第1061章 什麼是浸液系統（1/2）

這樣的話，當然當不得真的，大家也權當一樂。不過，現場的氣氛更加活躍，目的達到了。

待菜全部上齊，酒也開好後，食堂的工作人員離開，龍建華這才說道，「章總剛才開了一個頭，把問題拋出來了，大家邊吃邊聊，把下一步的工作思路說說。」

章中牟笑道，「我剛才還沒講完，被他們這些要喝酒的傢伙引偏了。這個晶片出來，意味著電子技術會跨出一大步，從電腦到手機到數字微波爐的產品，都會更新換代。」

林博士點頭，「這一點是毋容置疑的。研究院那些研究所，接下來會有很多工作要做。有大量的產品要升級，甚至有全新的產品出現。」

黎賽普把嘴裡的食物咽下，「這一點，研究院已經有很多思路，有的甚至已經動手，就等升級的晶片出現。各位等著吧，一個月內，準備將自己家裡的家電升級換代。」

劉芷菲笑道，「身在重世集團，真的有些悲哀。經常出現新產品，看到技術水平有突破性，馬上就想換。我們家的家電，都不知道換了幾茬。」

章中牟哈哈大笑，「劉教授，你們家就應該帶頭消費。你們不但應該是忠誠客戶，還應該是死忠粉。不過，這一次沒必要馬上換，因為這只是過渡性技術。林博士，龍博士，是不是？」

林博士點點頭，「我們這次用的只是最簡單的液體，是檢驗這個思路可不可行。這些東西都是龍博士製作出來的，她已經選擇了一些方向，準備接下來繼續試驗。」

筠研點點頭，「經過推算，下一步的波長會低於100nm。這樣的話，晶片處理能力更強，產品會更加先進，功能更加強大。」

他們兩個是這款光刻機設計的主要人員，他們兩人講話，其他人都仔細聽著。

她繼續說道，「這個進程是綜合性很強的。這次能製作出這種晶片，得益於配套技術已經成熟，比如ArF 準分子雷射、光刻膠、刻蝕機等能滿足要求；如果再短，這些配套產品不一定能滿足，最明顯就是刻蝕系統、對準系統對於精度控制要求更高。」

「我們的光刻機，下一步需要在支持基片的尺寸範圍、解析度、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等進行全方位升級。」

「這些性能指標中，只有光源波長和我們沒關係，其它都是我們光刻機研究所的研究內容。」

「我們都親身經歷了這次製作157nm，也發現很多問題。這次的有些改造能滿足157nm的，但肯定不能滿足更低波長的，所以我們下一步的任務很艱巨。」

劉芷菲偏頭在龍建華耳邊輕聲說，「筠研張嘴就是一套套的專業名詞，顯得高深莫測。」

龍建華輕輕一笑，「你跑到人家專業團隊裡來，能聽懂幾個就很不錯了。」

她輕哼一聲，又坐正邊吃邊聽各人的發言……

157nm晶片的推出，雖然無論研究院還是集團都沒對外宣傳，但還是有小道消息傳出，馬上引發業界震驚。

因為目前採用都是ArF 準分子雷射，其波長是193 nm，大家在這個階段停留的時間已經很久了；忽然之間出現157nm，等於突破了這一關口，意味著相關技術都取得了突破。

這個消息，讓一大片人震驚，也讓一大片人激動，更讓一些人感覺有點酸，還讓一些人很惱火。

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