第044章 給老楊上眼藥（2/2）

「你仔細和我說說。」

「現在國外幾家大廠都是使用DUV，也就是深紫外光，通過氟化氪KrF 準分子雷射來產生波長248 nm的光，這種光刻機是現在的主流，他們實驗室里現在已經基本研發完了通過氟化氬ArF準分子雷射來產生波長193 nm光波的下一代光刻機，193nm光刻機沒問題。但用F2準分子雷射產生波長157nm的光就是個大坑了，他們過不去了，技術解決不了。瓶頸出現了，咱們追趕的機會來了。」

「那他們的解決辦法是什麼？」

「研發EUV光刻機，也就是極紫外光刻技術。極紫外光刻使用波長在13.5nm的軟X射線來光刻，相當於用了一把更小、更鋒利的『刀』。極紫外光刻是5nm等更先進位程的必需工藝。但因為EUV不能穿透透鏡，只能用特殊的反射鏡來對焦，這樣EUV的能量損失會很大，需要更長的曝光時間，會嚴重影響生產速度，這也就是EUV光刻機難以大規模量產的原因。因此我確信EUV光刻技術15年內完成不了原型機，20年內量產無望。」

「你確定？」

「我十分確定一定以及肯定。我了解到的信息是荷蘭阿斯麥公司會聯合花旗國的幾家企業攻堅EUV這個難題，不帶咱們玩，當然，他們也不代表日系廠商玩。尼康和佳能會死磕157nm光刻機，這個是死路一條，等到他們衰落下去了咱們可以聯合他們在國內建廠，吸收他們的技術以後，再一起研發EUV光刻機，7nm以下的製程，DUV光刻機就不行了。」

「等等，你說DUV光刻不能達到7nm以下？那你的意思是說DUV光刻能突破65nm，甚至28nm、14nm直至7nm？」

「不錯，能，甚至14nm，7nm都可以，但比較麻煩。」

「怎麼做？你怎麼研究的？」

「怎麼研究的你就別管了。我接下來說的話你誰都不能說，包括在網絡上，你看我特意找你辦公室來聊，連icq都不用，你就知道問題的嚴重性了。」

「有必要這麼謹慎嗎？」

「當然有必要啦。此前，晶片製造工藝的更新換代是以3年為一個周期，但Intel率先將這個周期縮短為2年。Intel公司在1995年實現了0.35微米工藝量產，1997年他們會推出0.25微米產品，1999年就是0.18微米工藝，到了2001年則實現0.13微米產品的量產。英特爾在忠實地踐行著摩爾定律啊。」

「兩年一個更新換代，這是要弄死AMD啊。」

「這才好啊，這樣咱們就可以拉攏AMD，對抗intel了啊。不過呢，這只可能是一個幻想罷了，英特爾、AMD和微軟之間肯定是有默契的，他們會聯合起來搞死其他所有人，然後他們自己再慢慢玩，但英特爾和AMD誰也不會被玩死，否則他們就涉嫌壟斷了。」