483 其實，你的研究方向是對的（2/2）

「我聽阿姨說黃叔叔晚上有應酬，明哥剛才打電話所晚上要加班回不來，嫂子晚上夜班，阿姨在廚房炒菜。」張文華趕忙解釋道。

「那和你顧北閒聊，我和鶯鶯去廚房幫忙。」黃鸝轉身就往外走，看到黃鶯不想動，瞪了她一眼硬把她拉了出去。

現在客廳就剩顧北和張文華兩人，顧北隨意寒暄就問道：「193納米光源研究的怎麼樣？」

聽顧北問這，張文華一臉苦笑：「幾乎沒什麼進展，193nm波長步進掃描曝光機，光學光刻解析度到達70nm的「極限」，據我們了解，日本尼康利用自己在乾式微影技術的優勢，繼續開發157納米的F2雷射光源，這也是我們研究方向。」

怎麼是乾式？

顧北突然記得記得網上曾經說過，不是ASML公司的光刻機是什麼「浸潤式」的嗎？這兩者有啥區別？

「啥叫乾式微影？」顧北問道。

張文華沒想到顧北竟然對這種很專業的術語感興趣，想了想才解釋道：「所謂乾式，是指就是指光刻機投影物鏡最後一個透鏡的下表面與矽片上的光刻膠之間用的是空氣做介質，顧名思義乾式。」

「那為啥不用液體呢？」

顧北突然問道。

「你說用液體？」張文華神情很詫異。

「為什麼不行？」沒想到顧北的神情很認真：「不是要降低光的波長，光源出發是根本方法，水會改變光的折射率——這個高中生都知道吧？在透鏡和矽片之間加一層水，原有的193nm雷射經過折射，不就降低了嗎？」這段話還是顧北重生前在網上看到的，所謂的浸潤式原理。

「顧北，沒你想到這麼簡單！」張文華口氣中帶著沮喪：「就在乾式微影老攻克不下來的時候，我也想到了用液體做介質，但實驗了一段時間最後決定放棄。」

「為什麼？」

「因為這裡面有幾乎無法克服的苦難，如果用水，浸入環境很容易引起缺陷，包括氣泡和污染，還有抗蝕劑與流體或面漆的相容性問題，抗蝕劑的折射指數如何能大於1.8等等一系列問題都無法克服。」

聽不懂......

「劉所長怎麼想的？」顧北皺眉問道。

「他開始笑我有些異想天開，我據理力爭最後他同意我帶幾個人獨自試驗，不過到最後還是他說的對，我們又集中力量開始攻關乾式微影，白白浪費了幾個月時間。」

張文華說道最後有些不好意思。

「其實，你的研究方向是對的。」

顧北突然說出這句話，讓張文華吃了一驚：「你說我的方向是正確？」

顧北點點頭：「我問你，從理論上講用液體做介質到底有沒可能攻克這個難題？」

「理論上說是可行，但是實際遇到的問題很多，除了我剛才說的，還有折射指數大於1.65的流體滿足粘度、吸收和流體循環要求…….」張文華也不管顧北聽的懂聽不懂，又開始解釋起來。

「好了，不說這個……」顧北打斷他的話，「明天我就找你劉所長，研發方向放到液體做介質浸潤式微影技術！」

顧北的語氣不容置疑。

雖然他聽不懂張文華說的那些艱澀專業術語，但是他記得很清楚，網上就說ASML公司就靠這個所謂的「浸潤式」技術，打敗了尼康IBM等公司所謂乾式微影技術，成了光刻機的龍頭。

這實際上是一種研發路線選擇，一旦錯了，滿盤皆輸！尼康IBM就是活生生的例子！