第672章 第二步：覆海！破曉 A220 EUV光刻機（1/2）
第671章 第二步：覆海！破曉 A220 EUV光刻機，陳總的新籌碼！
八月中旬，阿里巴巴IPO、金陵青奧會、奧氏體304、冰桶挑戰、古劍奇譚和鋒菲複合的熱度最高，
讓網友們滿心疑惑的是，陳延森就像憑空銷聲匿跡了似的，完全是一副查無此人的狀態。
距他上一次公開露面，還是月初時，參加橙子幼兒園的剪彩儀式。
「學前教育行業的勢力這麼大嗎？連前幾天的商界領袖峰會，森哥都沒參加。」
「我聽說陳延森被人打了黑槍，現在還在滬城六院躺著呢！」
「不對啊，我聽到的版本是陳總買賣愛情的時候被抓了，最少得關半個月！」
「666！樓上的哥們，你當森聯資本的1000多名法務是擺設啊？等著收律師函吧！」
「笑死，刪帖速度挺快呀！這是森聯資本出手了，還是他自己怕了？」
「森哥早被人暗殺了！下個月要是有他的公開露面，那肯定是替身！」
就在陳延森忙著推進EUV光刻機的研發進度時，網上關於他的謠言卻越傳越離譜。
據不完全統計，在網友的嘴裡，陳延森的死法包括但不僅限於槍殺、被車撞、遭毒殺、溺水身亡等。
最終還是森聯資本法務部聯合微博、今日頭條、斗音、快手和微信等多家平台，才把造謠的聲音給壓了下去。
而陳延森則在一周之內，就接到了老陳的三通電話，在確定自家兒子沒事後，扭頭便化身闢謠戰士，跑到網上跟散布謠言的網友直接對線。
陳延森得知後，倒也沒有阻攔。
畢竟和人吵架，也能預防老年痴呆。
時間轉瞬即至，來到8月23日的傍晚。
盛夏的晚風，將星源科技研發中心的香樟樹吹得枝葉婆娑，沙沙作響。
最裡層的核心實驗室，此刻卻亮如白晝，空氣里瀰漫著一種近乎凝固的熾熱。
時間的概念被恆定的溫度和濕度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳動的數字。
陳延森穿戴整齊，裹得嚴嚴實實，與梁勁松、林南、汪象朝和章延傑等人站在控制台前，透過厚重的抗輻射玻璃，凝視著眼前的龐然大物。
儘管這台EUV光刻機只是Alpha樣機，但金屬機身在冷光燈下泛著精密的銀輝，數不清的管線如脈絡般纏繞，核心腔室的觀察窗透出淡紫色的微光。
EUV光源、光學系統和雙工件台的技術天塹，竟被他們一個接一個地成功攻克。
大廳里異常安靜，只能聽到通風系統低沉的嗡鳴。
工程師們穿著全套無塵潔淨服，像手術室里的醫生，在設備周圍輕緩走動，進行著最後的檢查。
「老闆，各分系統自檢完畢，真空機組隨時可以啟動。」
林南的聲音略帶沙啞，衝著陳延森匯報導。
陳延森點了點頭道：「按計劃執行，逐步建立光路真空。」
命令下達後，控制室內的氣氛瞬間繃緊。
巨大的真空泵組開始工作，發出低沉的咆哮。
顯示屏上，代表光路內部真空度的數字，呈現斷崖式的下跌趨勢：0.01 Pa、0.0001 Pa、0.000001 Pa，向著高真空邁進。
所有人的心都提到了嗓子眼！
極致的真空環境是EUV光源傳輸的前提，任何一個微小的泄漏，都會導致前功盡棄。
不知過了多久！
汪象朝突然大聲喊道：「真空度穩定在0.0000006帕斯卡！已達預設值！」
控制室內響起一陣輕微的、克制的騷動，有人輕輕握了握拳。
第一步，成功了！
為什麼EUV光刻機的光源系統、主腔體中的照明光學系統、成像光學系統、晶圓平台模組、掩模搬運模組和晶圓搬運模組都得處於真空環境下？
這是因為EUV光波長極短，極易被包括空氣在內的所有物質吸收。
在真空環境中，可最大限度減少氣體分子對EUV光的吸收和散射，從而確保光源能量能有效傳輸至後續光學系統。
若處於非真空環境，EUV光會在傳輸過程中大幅衰減，無法滿足光刻所需的能量強度。
這一模塊的核心技術，是由章延傑牽頭，聯合幾十名瀋陽光機所的工程師共同攻關拿下的。
因此，他比任何人都緊張，生怕出現紕漏，拖了團隊的後腿。
「啟動光源預熱，功率設定為最低檔位。」
陳延森語氣平靜地宣布下一道指令。
令人緊張的時刻到來！
這是星源科技馴服的第一頭猛獸——磁約束放電激發等離子體光源（MCDE-EUV光），即將被喚醒！
如果一切正常，它將用「電磁場」代替「雷射」作為激發和約束等離子體的手段，進而獲得微弱的、波長為13.5納米的極深紫外光。
時間一分一秒地過去。
主監控屏上，一個原本平坦的基線，微微跳動了一下。
隨後，一個雖然微弱但清晰可辨的信號峰值，頑強地升了起來！
「有信號了！」一名年輕的研究員忍不住地喊了出來，聲音因激動而變得有些失真。
大家心裡清楚！
第一台EUV光刻機對華國的重大戰略意義！
幾乎在同一時間，位於光路末端的EUV功率探測器，傳回了第一條數據：107瓦！
一個在AL看來早已被甩在身後的數字，此刻卻讓整個控制室陷入了短暫的寂靜，隨即爆發出巨大的歡呼聲！
許多人下意識地擁抱在一起，眼眶瞬間紅了。
林南感覺自己的手都在微微顫抖，於是緊緊抓住欄杆，強迫自己冷靜下來。
陳延森倒是心態平穩，他抬手壓了壓，控制室里的歡呼聲很快平息。
「提高功率檔位！」陳延森繼續說道。
EUV光刻機的功率直接決定單位時間內的晶圓處理數量，每一次曝光都需足夠的EUV光能量觸發光刻膠的光化學反應。
若光源功率低，需延長單次曝光時間或增加脈衝次數，才能滿足能量需求，導致單晶圓處理時間變長。
比如200W功率的機型每小時可處理約125片晶圓，而250W機型可提升至每小時170片，產能提升近40%。
技術差一點，就是差了一大截！
而且功率越高，單位晶圓的光刻成本就越低，規模化優勢就越強。
聞言，林南立刻收斂心神，右手在控制台上快速滑動，目光緊盯著功率調節界面：「收到！當前目標檔位220瓦，升壓速率已調至安全閾值，避免等離子體不穩定。」
控制台屏幕上，代表光源功率的數字開始緩慢爬升，每一個數值的跳動，控制室內的呼吸聲就跟著沉重一分。
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