第460章 謀求投資（1/2）

ASML公司作為目前世界上市場占有率最高的光刻機生產廠家，它的前身是荷蘭電子巨頭飛利浦的光刻設備研發部門。

曾在1973年成功研發出了新型光刻設備（PAS2000的原型），在整體性能研發方面取得一定成功，但由於成本高昂，且存在一系列技術問題，未能最終推出。

同時，由於其他設備商在解決接觸式光刻機的缺陷問題上用不同的技術路逕取得了突破，飛利浦一度計劃要關停光刻設備研發部門。

不過，隨後另一家半導體設備廠商ASMI希望與飛利浦合作開發生產光刻機，於是在1984年，雙方分別出資約210萬美元成立了ASML公司。

在當時的光刻機市場，ASML公司也還只是一個無名小卒。

當時市場主要被美國GCA和日本的尼康所占據，二者分別占據了約30%的市場，Ultratech占比約10%，剩下的市場則被Eaton、PE、佳能、日立等廠商瓜分，不過他們的份額均不到5%。

1990年左右，ASML公司推出PAS5500系列光刻機，這一設計超前的8英寸光刻機，其採用了模塊化設計的光刻系統，可以在同一平台上生產多代先進IC。

PAS5500不僅為ASML公司帶來台積電、三星和現代等關鍵客戶，憑藉PAS5500的優勢持續獲得客戶的認可，也為ASML公司帶來了市占率的持續提升和豐厚的盈利。到1994年時，ASML公司在全球光刻機市場的市占率已經提升至18%。

一切的轉折點，始於ASML公司在浸沒式光刻技術上的成功，這讓它一舉擊敗尼康等頭部光刻機廠商，成為全球光刻機市場的龍頭老大。

在2000年之前，光刻設備中一直採用的是乾式光刻技術，直到2002年，時任台積電研發副總的林本堅博士提出了浸沒式光刻機的設想，這一方案若能夠成功，便能夠解決光刻機光源波長遲遲無法越過193n的業界難題。

為此，林本堅找了許多半導體巨頭，希望能夠合作，其中便有當時光刻機最大的廠商——尼康。

但是，尼康拒絕了他，畢竟當時正是各個光刻機廠家競爭的關鍵時刻，尼康不敢去嘗試新方案，新方案一旦失敗，便會讓尼康錯過發展良機從而被美國公司超越。

最終，ASML公司選擇與台積電合作，從而成功的研發出了新型的光刻機。

得益於193n浸沒式光刻機系統在市場大獲成功，成為全球領先光刻機廠商之後，ASML公司很快又投入了全新的EUV光刻機的研發。

在2010年，ASML公司首次發售概念性的EUV光刻系統NXW:3100，從而開啟EUV光刻系統的新時代。

但是EUV光刻機的研發不僅耗資巨大，即使研發成功，其單價也是高的驚人（單台售價超過1億美元），僅有少數晶圓製造商能夠負擔的起，並且他們之前推出的概念機，有太多的不足之處，根本無法用於實際的生產，也導致了目前大部分的廠商，對於EUV光刻機的未來並不看好，這給ASML公司帶來了巨大的壓力。

這也是這一次ASML公司會主動提出來尋求合作廠商投資入股的主要原因。

不過陳威廉知道，許多事情都不會像表面上看起來那麼簡單，就像是ASML公司的崛起，背後就有著美利堅的支持，其實就是美利堅同日本，在晶片領域競爭的結果。

即便是沒有ASML公司，美利堅也會想辦法扶持別的公司來與以尼康、佳能為代表的日系廠商競爭。

只不過是尼康等日系廠商在其中犯了極大的錯誤，因為研究方向的原因，被ASML公司所超越。

在上個世紀八十年代之前，美系和日系廠商在晶片行業還有來有往，甚至最早美利堅公司還占據上風。

但到了80年代，日本在光刻機領域形成了壟斷地位，僅尼康一家企業便獨占50%的市場，佳能則次之。

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