第253章 最大的難點（2/2）

……

商海微電子公司。

來到這家公司調研的陳今，看到面前了這台22納米超分辨光刻機，聽了該公司的老總張昱明的介紹後。

「你說這麼好的設備，不能用於晶片的製造，為什麼不能？」

陳今皺著眉頭，這太可惜了吧。

「不是不能，而是太慢！我們想了各種辦法提高它的曝光效率，但曝光一張影刻，依然需要五天的時間，效率是傳統光刻幾萬分之一，這完全抵消了我們的成本優勢，只適合給一些較小規模的市場，比如軍用晶片、光學器件、高精密光柵、光子晶體陣列等等，這些領域我們的超分辨光刻機賣了好幾十台。」

「但大規模的晶片製造，只能老老實實地發展傳統光刻。」

張昱明搖著頭道。

目前商微電子的10nm光刻機，走的就是193nm光源浸沒式光刻路線，但製造成本太高，沒有市場競爭力，又面臨著ASML的專利壁壘，故而沒有推向市場。

EUV光刻方面，商微電子與國內很多機構合作，取得了一定的突破，但也面臨專利方面的問題。

很多高精尖設備，不是說Z國人打破不了壟斷，而是專利壁壘擋在了那裡。

「你們有沒有辦法加快它的曝光效率，趕上傳統光刻機呢？」

陳今問道，他覺得超分辨光刻這條路線，真的可以繼續走下去，應用於大規模晶片製造。

「辦法有！但實現太難了，以現有的技術，幾乎不可能實現。」

「先說說你的辦法。」

「增加『筆』的數量，把光刻鏡頭做小！在手指頭大小的光刻鏡頭內，集成1萬個微型鏡頭，讓這些微型鏡頭同時參與工作，完成集成電路的影刻。」

張昱明搖著頭，見陳今聽得一臉認真，不得不繼續道：「晶片內部的結構並不是非常複雜，每個die都是一樣的構造，每個電晶體也是相同的，一萬個微型鏡頭，同步完成一樣的工作，可大大加快超分辨光刻的效率。」

「甚至如果能做出這樣的光刻鏡頭，我們可以在一台超分辨光刻設備內，集成十組、一百組光刻鏡頭，在直徑超過100英寸的晶圓上進行光刻，10萬、100萬個的微型鏡頭同時工作，整體光刻效率，甚至遠遠超過傳統光刻機！」

「但……太難了，以現有的工業製造能力，生產出那樣的光刻鏡頭，至少得等到20年以後。」

問題是二十年後，隨著工業技術的提高，傳統光刻機的造價也降下去了，超分辨光刻還是不具有明顯的競爭優勢……這條路，前景雖好，卻註定成不了一條光明大道。

「所以說，主要只是一個光刻鏡頭的問題，對麼？」

陳今眼裡閃爍亮光說道。

「是的，主要的難點就是鏡頭。」

「好辦，鏡頭好辦……星海科技，有辦法提供你所說的這種鏡頭。」陳今說道。

張昱明正點著頭。

突然卡了一下。

扭過頭看著陳今，一臉呆愕！

喃喃問道：「陳總你說什麼？」