第170章 EUV光刻機？（1/2）

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因為我之前有過對90納米晶片使用的八英寸晶圓的改良經驗，所以提升晶圓的品質以及良品率交給我就行。」

聽到林軒的話語，現場許多人紛紛點頭表示認可。

確實，八英寸的晶圓相比六英寸的晶圓，最大的差別就是加工環節。

同一時間段里，使用八英寸晶圓生產晶片時能省下很多錢。

如果不計較成本的問題，六英寸的晶圓確實可以用，而且有林軒說過會提升晶圓的品質，這樣就更好了。

「所以接下來我們的任務，就是從晶圓切割之後的一系列生產製造問題」

隨著林軒的話語落地，現場的人們也再次點點頭表示知道。

隨後他們紛紛好奇地看著林軒，想看看林軒會怎麼安排任務給他們。

不過此時的林軒卻沒有立馬安排任務，畢竟林軒對於現場許多人根本就不了解，怎麼能安排任務呢？

所以需要林軒說了一下目前遇到的難題有什麼？

他們這些人需要研發什麼設備，然後才能根據他們的意願以及他們擅長什麼而安排任科研務。

「晶片的生產有著很多機器，但一些機器目前我們漢唐科技已經在採用一百五十納米的設備，這種設備改裝一下也能勉強夠用。」

「因為資金有限，所以我們的科研任務是放在絕對無法採購的核心設備，比如光刻機，刻蝕機，高能離子注入機，……」

頓了一下，林軒輕聲接著道：

「其中目前最難的就是光刻機以及刻蝕機，薄膜沉積設備，高能離子注入機。」

「薄膜沉積設備，島國那邊處於世界領先地位，此外我們還必須得攻剋薄膜沉積設備使用的化學材料。

刻蝕機方面也是差不多的情況，目前最難的則是光刻機。」

但這時候有人開口說道：

「光刻機其實也不算難，光刻機說到底不過是設備精度與鏡頭還有掃描曝光系統的問題，在光源上我們的問題不大。

我們大夏有世界領先的雷射晶體kbbf，大夏在雷射領域也是處於世界領先層次。」

說話的是其中一名年輕的研究生。

大夏許多科技雖然在世人的眼中一直是落後的狀態，但其實在一些特殊的領域，特別是軍l事領域其實並不弱。

其實關於雷射這東西大夏也早有研究，而且還有了自己的獨特成果，那就是雷射使用的kbbf晶體！

這kbbf晶體可不簡單，大夏發明它後可以說立刻站在了世界雷射領域的前沿。

其在二零零九年中斷kbbf晶體出售後，更是讓美迪國的雷射研究被迫停止十五年！

直到十五年後，他們才研究出新的雷射晶體替代大夏的 kbbf晶體，重新開始雷射的大規模研究。

所以大夏的雷射技術實際上並不弱，無論是現在還是後世都處於世界領先一流層次。

其中大夏的雷射產品銷售也是長期達到了全球市場的百分之五十，可以說這是少有的技術領先情況！

「不行， kbbf雷射晶體造不了光刻機， kbbf晶體的雷射太勐了，射出的雷射（euv）極深紫外光太過鋒利。

一不小心就會損壞整個晶片無法使用，除非我們的控制精度與對準成像系統能達到讓人驚訝的程度，否則極深紫外光我們絕對無法使用。」

目前市面上的光刻機採用的是紫外光源，紫外光源分為紫外光（ev），深紫外光（duv），極紫外光（euv）。

其中光源越到後面波長就越短，光刻的刀也就越鋒利，對於精度的控制要求就越高。

所以目前世界上沒有光刻機採用極深紫外光（euv），作為光源製作光刻機。

畢竟以目前幾十納米的製程工藝，也不需要這樣高精密的光刻機，目前絕大部分光刻機還是使用紫外光（ev）。

只有最前沿的45納米製程工藝，才使用euv之前的深紫外光源，也既是duv光刻機。

至於更下一步euv光刻機，那目前更是沒有，之所以沒有，這是因為目前沒有這方面的需求。

當然真實原因是想研發這樣的euv光刻機需要的成本也太高，不下於從零開始設計研發，所以目前市面上並沒有這樣的euv光刻機出現。

「沒錯，光刻機可不容易製造，你可能是其他領域的，所以有些想當然了，光是鏡片就能把我們卡死。」

此時人群前排的一個博士，也說出了想造光刻機不容易。

在他看來光刻機最難的就是鏡頭部分。

光刻機需要的鏡面誤差十分之小，鏡面誤差不能大於零點零五微米。

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