第46章 完美實現最初的設想（1/2）

「我們的問題不僅僅是找不到，而是有些問題即便找到了，也沒有辦法解決。」

會議只是開始，會後，翟豎與滬州微電子的工程師們一同探討著某些問題。

雖然工程師們也沒有寄希望於翟豎能夠解決，但既然翟豎問道了，他們也就如實回答了，根據最新的授權，除非絕密級，其他的東西可以對翟豎不設防。

「嗯。」

翟豎看著剛剛工程師們提出的一個問題，腦子裡也在飛速的轉圈，他在思考晶片生產過程中的一些細節。

既然同樣的設備有一個能夠達到一定的實驗室良好水平，那說明元器件本身是有這個能力的，之所以良率差，肯定是工藝細節方面的原因。

「掩膜版與晶圓的對準工藝...」翟豎嘟噥著。

「是，掩膜版與晶圓的對準至關重要，它將直接限制晶片的集成密度和電路的性能。」立即就有工程師接話：

「步進掃描投影光刻機在對準的過程中，晶圓片並不直接對準掩膜，而是圓片和掩膜經過各自的光路，對準於曝光系統的光學鏈上。

「而這兩個過程的精準匹配非常重要，些微的系統誤差對晶片的性能就會產生影響。」

另一名工程師點了點頭，肯定道：「是這樣的沒錯，現在就有一個巨大的問題，當光刻機光源大量的光穿過掩膜時，不可避免的會造成掩膜材料的發熱。

「熱脹冷縮，這對於任何材料來說都是一個無法避免的，即便是掩膜版採用了熱膨脹係數極低的材料，在0.71度的溫度變化下也會產生0.1微米的膨脹。

「可不要小看這0.1微米，就是它造成的掩膜版和晶圓片的對準精度誤差，從而影響了之後的曝光精度和製程工藝。」

「不可以對膨脹產生的誤差利用光源系統進行補償性的調整嗎？」翟豎脫口而出。

「想都別想，微米級別的精度誤差，1ms以內的補償，別說我們，全世界都做不到！一方面是監測難，另一個方面，電子曝光系統的控制也非常困難。而且，一個微小的變化可能就會誘發出更多問題，甚至整個系統就要重新調整。」

工程師們不約而同的搖了搖頭，翟豎的這個想法理論上沒有問題，但實際上根本行不通。

無論是對於微膨脹的監測還是對電子曝光系統的控制都不是現在的技術能夠做到的。

「聽你們說了這麼多，都是系統方面的問題。如果控制系統能夠達到這樣的精度，是不是這種方案就是可行的？」

翟豎顯得有些激動，亅語言啊，那就是個神，如果真的只僅僅是控制系統問題，那這問題亅語言就能解決啊！

工程師們看著翟豎的反應，雖然內心不認可，但心裡也有一些意動，不管成不成的，那麼多方案都嘗試過了，也不差這一回。

立即就地比對材料、探索方案，跟工程師們一起探究了大半天。

結束的時候都已經半夜了，最後得出結論：理論上是沒有問題的。

精度本身的控制，除了材料那就是控制系統了，從材料上來說，只要能精確監測工作溫度的變化，根據材料本身的性質就能計算出它的膨脹程度。

光源再有針對性的進行補償調整，理論上是可以做到。

但理論僅僅只是理論，哪怕是世界上最頂尖的控制系統現在也沒辦法精確的做到光源系統的實時曝光補償。

這對於系統的運算能力和指令時延要求太高了——按照推算，監測系統、控制系統以及光源曝光系統三個系統處理整個監測、控制、行動的邏輯加起來不能超過1ms級別。

否則補償就會失去意義，甚至會讓整個系統變得更加糟糕！

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