第二百四十三章 超紫外雷射！波長1.5nm！功率2000w！（1）（2/2）

這套物鏡來自系統那大豬蹄子的饋贈，絕不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起來那麼簡單，除了精度，它還有著強大的功率補償機制，容錯機制。

也就是說，雷射通過物鏡後，功率可以得到一定程度提升，精度方面，則可以做到無限接近完美的程度。

總之就是很牛逼很強大的意思，開了外掛的物鏡，效果槓槓的。

物鏡下面，就是測量台和曝光台了，老式光刻機需要先測量，再曝光，而這種雙工作檯系統，則可以實現一片矽片曝光同時，對另一片矽片進行測量和校準，工作效率提高一倍以上。

目前世界上，只有荷蘭asml掌握雙工作檯技術，長春這個機台如果量產的話，將是世界第二名。

整套機台最底部，是內部封閉框架和減振器，它們負責將工作檯與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，並維持恆定的溫度和壓力。

這一點極其重要，畢竟是製造高精密晶片，哪怕最微小的震動，一粒塵埃，或者空氣溫度和濕度的差別，都有可能導致矽片曝光失敗，或者前後兩批晶片的性能不一致。

一台完整的光刻機，大體就是這樣了。

聽上去簡單，其實卻是人類歷史上最複雜最精密的機台，沒有之一。 :（/

放眼全球，能做到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能做到極紫外的，則只有荷蘭asml，其餘所有競爭對手，全部慘遭淘汰，消失在歷史的長河中。

「開始！」

長春光機所的所長叫杜維明，隨著他一聲令下，全封閉絕塵實驗室里，光刻機開始運行，大概也就十幾秒鐘過後，一片十二寸矽晶圓就被送下了機台。

其實，光刻機工作速度是很快的，每小時出片兩百張以上，完全不存在任何問題。

制約產能的主要是沉積設備，PVD和CVD這類，其次是刻蝕設備包括ICP，CCP，DIE這幾種機台，另外熱處理設備工作效率也十分感人。

一條月產能一萬片十二寸晶圓的fab製造線，光刻機或許只有四五台，但刻蝕機，卻起碼要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蝕機。

目前，中微半導體的介質刻蝕技術，矽通孔刻蝕技術，位列全球前三，全球最牛的半導體代工廠台積電，生產線上就有成百上千台來自中微的刻蝕機，算是國產半導體行業里比較爭氣的存在。

「成了！」

「一次出片成功，比我預想的還要順利！」

「不愧是崑崙集團啊，臨時加進來的光學系統，竟然和舊機台配合的這麼好！」

實驗室里，穿著全套無塵服的工程師，取下十二寸矽晶圓，仔細看，會發現上面出現了密密麻麻，無比繁雜的線條，燈光下亮晶晶的，甚是喜人。

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