第480章 真假1微米（3）（2/2）

4.86直接就變成100.86了！

全世界的半導體工藝，直接就跳入到納米時代了。

這個技術對弱者而言，只是給他們加裝了一條腿，讓殘疾人可以站起來。但是對於強者來說，那就是加裝了翅膀！直接飛向宇宙了！

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在這個時代，中國在半導體方面的力量，實在是太弱了。

半導體設備落後，晶片設計上基本空白，晶圓廠，有也基本上等於沒有。

新世紀中國在半導體產業，雖然落後，但是追的速度還算可以。其中一個很大原因，就是整個世界，半導體產業的科技進步速度，實際上放緩了。

摩爾定律，某種程度上已經失效。世界在14nm上停留了三四年。這裡的典型，就是intel在10 nm上停留了接近5年時間。這種技術上的停頓，給後來者帶來了機會。

在這個時代，如果公開了這個技術，帶給這些落後國家的晶片產業，那可真是降維打擊了。

如果沒有這個技術，中國的半導體技術，還有晶片設計，在玩具，盜版遊戲機的帶動下，仍然可以緩慢發展。

雖然落後，但慢慢的，底蘊還是在增長。人才，技術，經驗，也在慢慢積累。

正是這些一點一滴的積攢，才給後世的厚積薄發，提供了一個很好的平台。

在新世紀，為什麼中國可以在半導體產業取得巨大的成功？

沒有531，907，908，909等一系列工程，培養出來的大批人才，怎麼可能？

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但在這個時代，中國並沒有準備好接受這種先進武器。

第一，這個時代，沒有晶圓代工產業。

這就意味著，沒有獨立的晶片設計公司。這個晶片廠，能發揮多大作用呢？

第二，沒有市場。

現在所有的晶圓廠，都是為特殊需求定製。這個工廠，如果僅僅是為了LCD晶片而創建，產量可以自足，但根本沒有發展空間。沒有足夠的利潤牽引，先進的技術也會慢慢落後。

日本的幾家光刻機廠是怎麼衰落的，就是在光刻機領域，他們整整損失了一代的訂單，然後就徹底失去了發展的機會。

在半導體下游產業沒有發展起來的時候，這個技術寧可毀掉，也不能讓它流傳出去。

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「好吧，你說什麼就是什麼了！你說的真1微米指的是什麼？」

「這裡面涉及了一個關鍵CMP拋光技術。它是我們繼續向下突破的關鍵。」

其實在整個90年代，制約晶片進程的關鍵，都不是光刻機。而是其它技術。

在接下來幾年，晶圓工藝進步，其中最重要的就是CMP技術。

集成電路製造過程好比建房子，每搭建一層樓層都需要讓樓層足夠水平齊整，才能在其上方繼續搭建另一層樓，否則樓面就會高低不平，影響整體可靠性。

使樓層整體平整的技術，在集成電路中製造中用的就是拋光技術。

CMP技術，是普通拋光技術的高端升級版本。

這個技術，它是從0.35微米步進到0.25微米的關鍵工藝。為了製造多層結構的3D高密度集成電路，必須使用CMP平坦化技術，代替傳統的方法。

這個技術，真正進入視線，就是從92年6月開始。它的大規模普及，則是在94年以後。

成永興對CMP技術抱以厚望。希望這個在更高製程上使用的關鍵技術，可以作為降維打擊的武器，拉動現在中國的晶圓技術，強行上個台階。

此時中國從2微米到1微米，到底是被什麼技術卡住了，他還真不知道，因為後世沒有這方面的資料。

術業有專攻。每一個子方向，都代表著全新的專業和技術。

機械，化學，材料，物理，光學，電子，量子，算法，除了核物理，其他的，但凡能想到的，都在晶圓產業里被涉及了。

LED時代，成永興可以靠小聰明加刻苦，冒充一把天才。

到了LCD時代，他就無法介入到細節工作，因為LCD所涉及到的領域，已經過於龐大和龐雜。

而到了晶圓時代，如果他再跑到前線去冒充專家，那就是自取其辱了。

他需要做的，就是給衝鋒在前的戰士們，指引正確的前進方向。