第1620章 從40nm到27nm的跨越（2/2）

只是理所當然地失敗了。

「傳統的折反式物鏡組內部包含超過三十片精密鏡片，用於校正像差、色差，並儘可能提升數值孔徑……不僅結構複雜，體積和重量很大，而且其中的反射元件對於加工精度的要求非常苛刻。」

張汝寧進一步介紹道：

「而在更新的1800物鏡組裡面，大部分功能被集成在少數幾片核心鏡片上，獨立光學元件的數量縮減到14個，所以體積比老型號小了一半以上……」

「……」

就在這時，一直坐在控制電腦前的何修軍突然站了起來。

「張組長，最新一組測試數據已經處理完成！」

他走到張汝寧同時也是走到欒文杰身邊，匯報導：

「193nm波長下，1800物鏡組的等效數值孔徑（NA）實測最大值為1.8009，最小值為1.7996，NA一致性達到±0.0013，該數值遠優於我們設計指標要求的±0.006，也完全符合設計方案中理論NA值1.80的預期……」

「全視場振幅極化量RMS（均方根值）實測最大11.85%，最小11.80%……」

「全視場相位延遲量RM，最小3.45nm……」

實際上，這裡面的多數參數都是之前就已經測完的，而且往常也不需要他專門匯報一遍。

報告導出來，大家分別翻閱就行了。

但此刻面對親臨一線的欒文杰，這份詳盡到幾乎冗餘的數據匯報，就顯得格外「恰到好處」且分量十足。

「等等。」

果然，欒文杰打斷了後續的參數報告。

他既然是專程來考察光刻機，那對於這些基本參數自然有所了解。

雖然被一大堆突然湧入的數據搞得有些頭腦發脹，但還是敏銳地捕捉到了其中最關鍵的部分。

NA值，1.80！

「我記得之前提交上去的那份評估報告裡，最高規格的數值孔徑預估是1.70？」

面對這個問題，張汝寧臉上露出一絲茫然。

他並不清楚有個什麼評估報告的事情。

常浩南則立刻接過話頭解釋道：

「欒主任，那份報告裡使用的1.70數值，值是我們在進行不同技術路線橫向比較時設定的……嗯……參照基準，當時為了公平對比，說明鑥鋁石榴石體系的優勢，我設定的前提是其他所有條件，比如光源、視場、機械平台等都保持一致。」

「但在實際設計過程中，因為物鏡組的整體結構變得簡單了很多，所以這套系統的底鏡有效視場比之前的1500物鏡組拓寬了大約15%……換句話說，在相同NA值要求下，光線通過物鏡邊緣區域的入射角度可以更小，這極大地減輕了設計超高NA系統時最難克服的邊緣像差壓力……」

「……」

「總之，」他最後總結道：「這0.1的額外提升，是設計自由度增加帶來的實際工程紅利，也是新方案綜合優越性的直接體現。」

欒文杰未必完全聽懂了他的長篇大論，但眼前的結果顯然令他心情大好：

「所以常院士，剛才你提到華芯國際能以MPP工藝大批量生產新一代的7nm晶片，關鍵就在於這個1.80的NA值？」

常浩南點頭：「正是。」

接著，又從旁邊拿過一張表格遞給對方：

「1.80的數值孔徑，相當於我們把193nm DUV光源的等效波長壓縮到了107.22nm，對比NA值1.35的老體系，相當於把特徵尺寸的理論極限從40nm一舉推進到27nm左右！」

欒文杰的視線表格上飛速移動，最終找到了27nm對應的節點尺寸——

三星的5nm，或T++，或英特爾的10nm。

總之，已經是目前最強的一檔。

是過去一般認為，只有EUV光刻機才能夠涉足的領域。

看到對方的視線已經不再移動，常浩南終於給出了階段性的結論：

「這個能力，足以覆蓋當前TC、三星等廠商定義的7nm，乃至未來3-5年內可能出現的更先進節點的全部生產需求！而且，都是依靠單次曝光工藝就能穩定實現的。」

「更重要的是，ArF-1800光刻機的主體架構，除了這個革命性的物鏡組以外，其餘光源系統、精密工件台、掩模台以及對準器等核心子系統，都沿用了ArF-1500平台上的成熟設計，最大程度地保證了設備的可靠性用戶的轉產速度。」

說到這裡他稍作停頓，讓欒文杰有些緩衝的時間。

之後，又擲地有聲地強調：

「這意味著，一旦設備交付，華芯國際能夠在最短時間內完成產線切換和產能爬坡，無需漫長的調試和適應期，供應鏈的每一個環節，從材料、設計到製造，都牢牢掌握在我們自己手中，穩定、安全、可控！」

(本章完)